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Détails des produits

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Sic substrat
Created with Pixso. Substrat SiC 4H-SEMI 2 pouces Épaisseur 350um 500um Qualité Prime/Dummy Verres AR Qualité Optique

Substrat SiC 4H-SEMI 2 pouces Épaisseur 350um 500um Qualité Prime/Dummy Verres AR Qualité Optique

Nom De Marque: ZMSH
Numéro De Modèle: Substrat SiC
Délai De Livraison: 2 à 4 semaines
Conditions De Paiement: T/T
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Chine
Matériel:
Monocristal de SiC
Dia:
500,8 mm ± 0,38 mm
Grade:
Grade P ou D
Épaisseur:
350 mm ou 500 mm
Orientation:
Sur l'axe: <0001> +/- 0,5 degré
Résistivité:
≥1E5 Ω·cm
Mettre en évidence:

Substrate à SiC de 500um

,

Substrate SiC de qualité P

,

Substrate SiC de 2 pouces

Description de produit

Plaquette SiC, Plaquette de carbure de silicium, Substrat SiC, Substrat de carbure de silicium, Grade P, Grade D, SiC 2 pouces, SiC 4 pouces, SiC 6 pouces, SiC 8 pouces, SiC 12 pouces, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, type HPSI,  Verres AR, Grade optique


À propos de 4H-SEMI SiCSubstrat SiC 4H-SEMI 2 pouces Épaisseur 350um 500um Qualité Prime/Dummy Verres AR Qualité Optique 0

 

  • utiliser du monocristal SIC pour fabriquer

 

  • prendre en charge les produits personnalisés avec des illustrations de conception

 

  • haute qualité, adapté aux applications haute performance

 

  • haute dureté, environ 9,2 Mohs

 

  • largement utilisé dans les domaines de haute technologie, comme l'électronique de puissance, l'électronique automobile et les dispositifs RF


Description de 4H-SEMI SiC

 

Le carbure de silicium (SiC) est un semi-conducteur polyvalent réputé pour ses performances dans les applications haute puissance et haute fréquence.

Sa large bande interdite permet un fonctionnement efficace à des tensions et des températures élevées, ce qui le rend adapté à l'électronique de puissance, aux dispositifs RF et aux environnements difficiles.

 

Le SiC est essentiel pour des industries telles que l'automobile et l'énergie en raison de sa fiabilité et de son efficacité.

Des méthodes de fabrication avancées, comme le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le transport physique en phase vapeur (PVT), garantissent des composants durables et de haute qualité.

 

Substrat SiC 4H-SEMI 2 pouces Épaisseur 350um 500um Qualité Prime/Dummy Verres AR Qualité Optique 1

 

Les propriétés uniques du SiC le rendent également idéal pour l'optoélectronique à courte longueur d'onde, les environnements à haute température, la résistance aux radiations et les systèmes électroniques exigeants.

ZMSH propose une gamme de plaquettes SiC, y compris les types 6H et 4H, qu'il s'agisse du type N, du type SEMI ou du type HPSI, garantissant une qualité élevée, un approvisionnement stable et une rentabilité grâce à des processus de production à grande échelle.


 

Caractéristiques de 4H-SEMI SiC

 

Spécification du substrat de carbure de silicium semi-isolant 4 pouces de diamètre 4H
PROPRIÉTÉ DU SUBSTRAT Grade de production Grade factice
Diamètre 50,8,0 mm +0,0/-0,38 mm
Orientation de la surface sur l'axe : {0001} ± 0,2°
Orientation du plat principal <11-20> ± 5,0˚
Orientation du plat secondaire 90,0˚ CW du principal ± 5,0˚, face silicium vers le haut
Longueur du plat principal 32,5 mm ± 2,0 mm
Longueur du plat secondaire 18,0 mm ± 2,0 mm
Bord de la plaquette Chanfrein
Densité des micropores ≤5 micropores/cm2 ≤50 micropores/cm2
Zones polytypiques par lumière de haute intensité Aucune autorisée ≤10 % de la surface
Résistivité 0,015~0,028Ω·cm (surface 75 %)
0,015~0,028Ω·cm
Épaisseur 350,0 μm ± 25,0 μm ou 500,0 μm ± 25,0 μm
TTV ≤10 μm ≤15 μm
BOMBE (valeur absolue) ≤25 μm ≤30 μm
Voile ≤45 μm
Finition de surface Polissage double face, CMP face Si (polissage chimique)
Rugosité de surface CMP Face Si Ra≤0,5 nm S.O.
Fissures par lumière de haute intensité Aucune autorisée
Éclats/encoches de bord par éclairage diffus Aucune autorisée Qté.2 <1,0 mm de largeur et de profondeur
Surface totale utilisable ≥90 % S.O.
Remarque : les spécifications personnalisées autres que les paramètres ci-dessus sont acceptables.

 

 

Plus d'échantillons de 4H-SEMI SiC

Substrat SiC 4H-SEMI 2 pouces Épaisseur 350um 500um Qualité Prime/Dummy Verres AR Qualité Optique 2

*N'hésitez pas à nous contacter si vous avez des demandes personnalisées.

 

 

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FAQ

1. QComment 4H-SiC Semi assure-t-il la qualité de ses plaquettes ?

    R : 4H-SiC Semi utilise des techniques de fabrication avancées, notamment le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le transport physique en phase vapeur (PVT), et suit des processus de contrôle qualité rigoureux pour garantir des plaquettes de haute qualité.

 

2. Q : Quelle est la principale différence entre 4H-N SiC et 4H-SEMI SiC ?

    R : La principale différence entre 4H-N SiC et 4H-SEMI SiC est que le 4H-N SiC (dopé à l'azote) est du carbure de silicium semi-conducteur de type n, tandis que le 4H-Semi SiC est du carbure de silicium semi-isolant, qui a été traité pour avoir une très haute résistivité.



Balises : #
4H-SEMI, #Substrat SiC, #2 pouces, #Épaisseur 350 um 500 um, #Grade Prime/Factice, #Verres AR, #Grade optique