| Nom De Marque: | ZMSH |
| Numéro De Modèle: | Substrat SiC |
| Délai De Livraison: | 2 à 4 semaines |
| Conditions De Paiement: | T/T |
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À propos de 4H-SEMI SiC![]()
Description de 4H-SEMI SiC
Le carbure de silicium (SiC) est un semi-conducteur polyvalent réputé pour ses performances dans les applications haute puissance et haute fréquence.
Sa large bande interdite permet un fonctionnement efficace à des tensions et des températures élevées, ce qui le rend adapté à l'électronique de puissance, aux dispositifs RF et aux environnements difficiles.
Le SiC est essentiel pour des industries telles que l'automobile et l'énergie en raison de sa fiabilité et de son efficacité.
Des méthodes de fabrication avancées, comme le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le transport physique en phase vapeur (PVT), garantissent des composants durables et de haute qualité.
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Les propriétés uniques du SiC le rendent également idéal pour l'optoélectronique à courte longueur d'onde, les environnements à haute température, la résistance aux radiations et les systèmes électroniques exigeants.
ZMSH propose une gamme de plaquettes SiC, y compris les types 6H et 4H, qu'il s'agisse du type N, du type SEMI ou du type HPSI, garantissant une qualité élevée, un approvisionnement stable et une rentabilité grâce à des processus de production à grande échelle.
Caractéristiques de 4H-SEMI SiC
| Spécification du substrat de carbure de silicium semi-isolant 4 pouces de diamètre 4H | ||
| PROPRIÉTÉ DU SUBSTRAT | Grade de production | Grade factice |
| Diamètre | 50,8,0 mm +0,0/-0,38 mm | |
| Orientation de la surface | sur l'axe : {0001} ± 0,2° | |
| Orientation du plat principal | <11-20> ± 5,0˚ | |
| Orientation du plat secondaire | 90,0˚ CW du principal ± 5,0˚, face silicium vers le haut | |
| Longueur du plat principal | 32,5 mm ± 2,0 mm | |
| Longueur du plat secondaire | 18,0 mm ± 2,0 mm | |
| Bord de la plaquette | Chanfrein | |
| Densité des micropores | ≤5 micropores/cm2 | ≤50 micropores/cm2 |
| Zones polytypiques par lumière de haute intensité | Aucune autorisée | ≤10 % de la surface |
| Résistivité | 0,015~0,028Ω·cm | (surface 75 %) |
| 0,015~0,028Ω·cm | ||
| Épaisseur | 350,0 μm ± 25,0 μm ou 500,0 μm ± 25,0 μm | |
| TTV | ≤10 μm | ≤15 μm |
| BOMBE (valeur absolue) | ≤25 μm | ≤30 μm |
| Voile | ≤45 μm | |
| Finition de surface | Polissage double face, CMP face Si (polissage chimique) | |
| Rugosité de surface | CMP Face Si Ra≤0,5 nm | S.O. |
| Fissures par lumière de haute intensité | Aucune autorisée | |
| Éclats/encoches de bord par éclairage diffus | Aucune autorisée | Qté.2 <1,0 mm de largeur et de profondeur |
| Surface totale utilisable | ≥90 % | S.O. |
| Remarque : les spécifications personnalisées autres que les paramètres ci-dessus sont acceptables. | ||
Plus d'échantillons de 4H-SEMI SiC
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*N'hésitez pas à nous contacter si vous avez des demandes personnalisées.
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FAQ
1. Q: Comment 4H-SiC Semi assure-t-il la qualité de ses plaquettes ?
R : 4H-SiC Semi utilise des techniques de fabrication avancées, notamment le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le transport physique en phase vapeur (PVT), et suit des processus de contrôle qualité rigoureux pour garantir des plaquettes de haute qualité.
2. Q : Quelle est la principale différence entre 4H-N SiC et 4H-SEMI SiC ?
R : La principale différence entre 4H-N SiC et 4H-SEMI SiC est que le 4H-N SiC (dopé à l'azote) est du carbure de silicium semi-conducteur de type n, tandis que le 4H-Semi SiC est du carbure de silicium semi-isolant, qui a été traité pour avoir une très haute résistivité.
Balises : #4H-SEMI, #Substrat SiC, #2 pouces, #Épaisseur 350 um 500 um, #Grade Prime/Factice, #Verres AR, #Grade optique