Dans l'emballage avancé au niveau des plaquettes et le traitement par le dos, la liaison temporaire et le délivrement sont passés d'une étape de support à un module de processus critique pour le rendement.
Comme les plaquettes de dispositif sont diluées à 30 ‰ 100 μm, et dans certains cas même en dessous de 30 μm, l'intégrité mécanique du silicium est fondamentalement modifiée.la gaufre se comporte moins comme un substrat rigide et plus comme une membrane flexibleToute charge thermique excessive, cisaillement mécanique ou contrainte non uniforme pendant le débonding peut entraîner directement:
Plaquette et voûte de plaquette
Micro-craquage et fracture
Délaminage des métaux
Dommages aux diélectriques à faible k et aux interconnexions Cu
Dans ce contexte, le décapage au laser est devenu l'une des techniques de séparation les plus contrôlées et à faible contrainte pour les emballages avancés haut de gamme.
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La caractéristique déterminante du débonding laser est la fourniture d'énergie spatialement sélective.
Contrairement à la déconnexion thermique, chimique ou mécanique, où l'énergie ou la force est appliquée à l'ensemble de la pile de gaufres, la déconnexion laser limite le dépôt d'énergie à une région d'interface prédéfinie.
Le concept repose sur trois conditions essentielles:
Une plaque porteur laser transparente
Généralement du verre, de la silice fondue ou de la céramique transparente
Une couche de liaison temporaire sensible au laser
d'une épaisseur n'excédant pas 50 mm
Irradiation laser du côté du support
La plaque du dispositif n'est jamais directement exposée au faisceau laser
En termes pratiques, le laser passe à travers le support, n'interagit qu'avec la couche de liaison ou l'interface de liaison, et initie la séparation sans chauffer ou soulever directement la plaque du dispositif.
En prenant comme exemple un support en verre, un débit de procédé standard est le suivant:
Liens temporaires
Dispositif de collage de plaquette à un support transparent à l'aide d'un adhésif à libération laser
Faible tension de liaison et bonne planéité
Dilution des plaquettes
Récupération et CMP
Épaisseur finale habituellement 20 ‰ 50 μm
Traitement à l'arrière
Formation du VST
Couches de redistribution (RDL)
Métallisation à l'arrière
Nettoyage, gravure et dépôt
Décapage au laser
Scannings au laser du côté du support
L'énergie est déposée à la couche adhésive ou à l'interface
Séparation des plaquettes
La force d'adhérence s'effondre
Dispositif de séparation de plaquette avec une force externe minimale ou nulle
Nettoyage après dépôt
Éliminer les résidus d'adhésif, si nécessaire
Le détachement au laser n'est pas régi par un mécanisme unique. Selon la chimie de l'adhésif, la longueur d'onde du laser et les paramètres d'impulsion, plusieurs mécanismes peuvent agir indépendamment ou simultanément.
La déconnexion photothermique est le mécanisme le plus largement utilisé dans les environnements de production.
L'adhésif adhésif absorbe fortement l'énergie du laser
Un chauffage transitoire localisé se produit à l'interface
Les chaînes polymères subissent une décomposition thermique ou une carbonisation
La force d'adhérence diminue rapidement
Caractéristiques principales:
L'énergie est limitée aux régions à l'échelle micrométrique
Durée de chauffage extrêmement courte (ns μs)
L'augmentation de la température mondiale des plaquettes est négligeable
Certains adhésifs avancés sont conçus pour subir des réactions photochimiques directes sous des longueurs d'onde laser spécifiques (souvent UV).
Les photons laser brisent les liaisons polymères
Le réseau moléculaire s'effondre.
L'adhésif perd son intégrité structurelle
Ce mécanisme repose moins sur l'augmentation de la température et plus sur la scission des liaisons chimiques, ce qui le rend particulièrement adapté pour:
Des plaquettes ultra-minces
Structures de dispositifs sensibles à la température
À des densités d'énergie plus élevées, l'irradiation laser peut induire:
Ablation localisée ou formation rapide de gaz
Génération de pression à micro-échelle à l'interface
Séparation uniforme sur toute la zone douanière
Lorsqu'il est correctement contrôlé, ce mécanisme produit un front de séparation plan et doux, plutôt qu'une délamination catastrophique.
Comparé aux techniques de débonding thermique, chimique et mécanique, le débonding au laser présente plusieurs avantages décisifs.
Pas de glissement
Pas de pelure
Force extérieure minimale
Cela rend le débonding laser particulièrement approprié pour les plaquettes plus fines que 50 μm.
Le dépôt d'énergie est localisé et transitoire.
La plaque du dispositif subit une charge thermique négligeable
Sécurisé pour les interconnexions Cu et les matériaux à faible teneur en calcium
La longueur d'onde du laser, l'énergie de l'impulsion, la fréquence de répétition et le schéma de balayage sont programmables.
L'uniformité des plaquettes de 300 mm est possible
Excellente répétabilité
Aucune contamination par solvant
L'adhésif résiduel est mince et contrôlable
Nettoyage simplifié après dépôt
Malgré ses avantages, le débonding laser n'est pas universellement applicable.
Les principales limitations sont les suivantes:
Exigences relatives aux plaquettes porteurs transparentes
Les adhésifs doivent être compatibles avec le laser
Coût d'investissement plus élevé et complexité du système
Intégration étroite entre les paramètres laser et la chimie des adhésifs
En conséquence, le débonding laser est généralement déployé dans des applications à forte valeur ajoutée et sensibles au rendement plutôt que dans des processus hérités axés sur les coûts.
Le débonding au laser est couramment utilisé dans:
Emballage logique avancé
Intégration de circuits intégrés 3D et TSV
Intégration hétérogène
Mémoire à large bande passante (HBM)
IA et appareils informatiques haute performance
Comme l'épaisseur de la gaufre continue de diminuer et que la densité d'intégration augmente, le débonding passe d'une opération secondaire à un déterminant principal du rendement.
Les tendances actuelles indiquent:
Migration du débonding mécanique → thermique → laser
La co-conception croissante de la chimie des adhésifs × physique laser × matériaux de support
Le décapage au laser devient la solution par défaut pour les wafers ultra-minces
Le décapage au laser ne consiste pas à enlever l'adhésif, il s'agit de contrôler précisément où et comment la séparation se produit.
Dans les emballages avancés, le véritable défi n'est plus de coller les plaquettes, mais de les séparer proprement, doucement et exactement à l'interface prévue.
Le décapage au laser représente l'une des solutions les plus sophistiquées à ce défi, combinant la science des matériaux, l'optique et l'ingénierie des procédés en une seule étape élégante.
Dans l'emballage avancé au niveau des plaquettes et le traitement par le dos, la liaison temporaire et le délivrement sont passés d'une étape de support à un module de processus critique pour le rendement.
Comme les plaquettes de dispositif sont diluées à 30 ‰ 100 μm, et dans certains cas même en dessous de 30 μm, l'intégrité mécanique du silicium est fondamentalement modifiée.la gaufre se comporte moins comme un substrat rigide et plus comme une membrane flexibleToute charge thermique excessive, cisaillement mécanique ou contrainte non uniforme pendant le débonding peut entraîner directement:
Plaquette et voûte de plaquette
Micro-craquage et fracture
Délaminage des métaux
Dommages aux diélectriques à faible k et aux interconnexions Cu
Dans ce contexte, le décapage au laser est devenu l'une des techniques de séparation les plus contrôlées et à faible contrainte pour les emballages avancés haut de gamme.
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La caractéristique déterminante du débonding laser est la fourniture d'énergie spatialement sélective.
Contrairement à la déconnexion thermique, chimique ou mécanique, où l'énergie ou la force est appliquée à l'ensemble de la pile de gaufres, la déconnexion laser limite le dépôt d'énergie à une région d'interface prédéfinie.
Le concept repose sur trois conditions essentielles:
Une plaque porteur laser transparente
Généralement du verre, de la silice fondue ou de la céramique transparente
Une couche de liaison temporaire sensible au laser
d'une épaisseur n'excédant pas 50 mm
Irradiation laser du côté du support
La plaque du dispositif n'est jamais directement exposée au faisceau laser
En termes pratiques, le laser passe à travers le support, n'interagit qu'avec la couche de liaison ou l'interface de liaison, et initie la séparation sans chauffer ou soulever directement la plaque du dispositif.
En prenant comme exemple un support en verre, un débit de procédé standard est le suivant:
Liens temporaires
Dispositif de collage de plaquette à un support transparent à l'aide d'un adhésif à libération laser
Faible tension de liaison et bonne planéité
Dilution des plaquettes
Récupération et CMP
Épaisseur finale habituellement 20 ‰ 50 μm
Traitement à l'arrière
Formation du VST
Couches de redistribution (RDL)
Métallisation à l'arrière
Nettoyage, gravure et dépôt
Décapage au laser
Scannings au laser du côté du support
L'énergie est déposée à la couche adhésive ou à l'interface
Séparation des plaquettes
La force d'adhérence s'effondre
Dispositif de séparation de plaquette avec une force externe minimale ou nulle
Nettoyage après dépôt
Éliminer les résidus d'adhésif, si nécessaire
Le détachement au laser n'est pas régi par un mécanisme unique. Selon la chimie de l'adhésif, la longueur d'onde du laser et les paramètres d'impulsion, plusieurs mécanismes peuvent agir indépendamment ou simultanément.
La déconnexion photothermique est le mécanisme le plus largement utilisé dans les environnements de production.
L'adhésif adhésif absorbe fortement l'énergie du laser
Un chauffage transitoire localisé se produit à l'interface
Les chaînes polymères subissent une décomposition thermique ou une carbonisation
La force d'adhérence diminue rapidement
Caractéristiques principales:
L'énergie est limitée aux régions à l'échelle micrométrique
Durée de chauffage extrêmement courte (ns μs)
L'augmentation de la température mondiale des plaquettes est négligeable
Certains adhésifs avancés sont conçus pour subir des réactions photochimiques directes sous des longueurs d'onde laser spécifiques (souvent UV).
Les photons laser brisent les liaisons polymères
Le réseau moléculaire s'effondre.
L'adhésif perd son intégrité structurelle
Ce mécanisme repose moins sur l'augmentation de la température et plus sur la scission des liaisons chimiques, ce qui le rend particulièrement adapté pour:
Des plaquettes ultra-minces
Structures de dispositifs sensibles à la température
À des densités d'énergie plus élevées, l'irradiation laser peut induire:
Ablation localisée ou formation rapide de gaz
Génération de pression à micro-échelle à l'interface
Séparation uniforme sur toute la zone douanière
Lorsqu'il est correctement contrôlé, ce mécanisme produit un front de séparation plan et doux, plutôt qu'une délamination catastrophique.
Comparé aux techniques de débonding thermique, chimique et mécanique, le débonding au laser présente plusieurs avantages décisifs.
Pas de glissement
Pas de pelure
Force extérieure minimale
Cela rend le débonding laser particulièrement approprié pour les plaquettes plus fines que 50 μm.
Le dépôt d'énergie est localisé et transitoire.
La plaque du dispositif subit une charge thermique négligeable
Sécurisé pour les interconnexions Cu et les matériaux à faible teneur en calcium
La longueur d'onde du laser, l'énergie de l'impulsion, la fréquence de répétition et le schéma de balayage sont programmables.
L'uniformité des plaquettes de 300 mm est possible
Excellente répétabilité
Aucune contamination par solvant
L'adhésif résiduel est mince et contrôlable
Nettoyage simplifié après dépôt
Malgré ses avantages, le débonding laser n'est pas universellement applicable.
Les principales limitations sont les suivantes:
Exigences relatives aux plaquettes porteurs transparentes
Les adhésifs doivent être compatibles avec le laser
Coût d'investissement plus élevé et complexité du système
Intégration étroite entre les paramètres laser et la chimie des adhésifs
En conséquence, le débonding laser est généralement déployé dans des applications à forte valeur ajoutée et sensibles au rendement plutôt que dans des processus hérités axés sur les coûts.
Le débonding au laser est couramment utilisé dans:
Emballage logique avancé
Intégration de circuits intégrés 3D et TSV
Intégration hétérogène
Mémoire à large bande passante (HBM)
IA et appareils informatiques haute performance
Comme l'épaisseur de la gaufre continue de diminuer et que la densité d'intégration augmente, le débonding passe d'une opération secondaire à un déterminant principal du rendement.
Les tendances actuelles indiquent:
Migration du débonding mécanique → thermique → laser
La co-conception croissante de la chimie des adhésifs × physique laser × matériaux de support
Le décapage au laser devient la solution par défaut pour les wafers ultra-minces
Le décapage au laser ne consiste pas à enlever l'adhésif, il s'agit de contrôler précisément où et comment la séparation se produit.
Dans les emballages avancés, le véritable défi n'est plus de coller les plaquettes, mais de les séparer proprement, doucement et exactement à l'interface prévue.
Le décapage au laser représente l'une des solutions les plus sophistiquées à ce défi, combinant la science des matériaux, l'optique et l'ingénierie des procédés en une seule étape élégante.