Détails des produits

Maison PRODUITS

de 3inch 4inch 2inch 0.35mm DSP de silicium 4h-N de carbure gaufrettes extérieures sic

Nom De Marque:	zmkj
Numéro De Modèle:	4H-N, 3inch
MOQ:	10pcs
Prix:	by required
Délai De Livraison:	10-20days

Informations détaillées

Description de produit

Informations détaillées

Lieu d'origine:

La Chine

Matériel:

cristal de carbure de silicium

Taille:

3inch ou 4inch

Application:

essai d'équipement

Résistivité:

0.015~0.028Ω.cm

Type:

4h-n

Épaisseur:

0.35mm

Surface:

DSP

Orientation:

0° outre de c-axe

Détails d'emballage:

Emballé dans un environnement de pièce propre de la classe 100, dans des cassettes de conteneurs sim

Capacité d'approvisionnement:

100pcs/months

Mettre en évidence:

de silicium 4h-N de carbure gaufrettes sic

Gaufrette extérieure de carbure de silicium de DSP

gaufrette de carbure de silicium de 0.35mm

Description de produit

type de production de catégorie de catégorie substrats FACTICES sic, substrats de 4inch dia100m 4H-N de carbure de silicium pour le dispositif de semi-conducteur,

gaufrettes en cristal adaptées aux besoins du client de carbure de silicium de l'épaisseur 4inch 4H-N sic pour la catégorie de cristal de graine 4inch ;

de 3inch 4inch 4h-n 4h-semi d'essai de catégorie de silicium de carbure gaufrettes factices sic

Carborundum sic en cristal de gaufrette de substrat de carbure de silicium

PROPRIÉTÉS MATÉRIELLES DE CARBURE DE SILICIUM

Nom de produit :

Substrat en cristal de carbure de silicium (sic)

Description de produit :

2-6inch

Paramètres techniques :

Structure cellulaire	Hexagonal
Treillagez constant	des = 3,08 Å c = 15,08 Å
Priorités	ABCACB (6H)
Méthode de croissance	MOCVD
Direction	Axe de croissance ou (° 0001) 3,5 partiel
Polonais	Polissage de surface de SI
Bandgap	eV 2,93 (indirect)
Type de conductivité	N ou seimi, grande pureté
Résistivité	0,076 ohm-cm
Constante diélectrique	e (11) = e (22) = 9,66 e (33) = 10,33
Conduction thermique @ 300K	5 avec le cm. K
Dureté	9,2 Mohs

Caractéristiques :

6H 4H de type n dia2 semi-isolant de type n « x0.33mm, dia2 » x0.43mm, dia2 ' x1mmt, jet simple de 10x10mm, de 10x5mm ou double jet, Ra <10a>

Emballage standard :

sac 1000 pièce propre, 100 propre ou emballage simple de boîte

Application de carbure de silicium dans l'industrie de dispositif de puissance

De représentation d'unité du silicium SI de silicium de carbure nitrure GaN de gallium sic
EV d'espace de bande 1,12 3,26 3,41
Champ électrique MV/cm de panne 0,23 2,2 3,3
Mobilité des électrons cm^2/Vs 1400 950 1500
Dérivez la vitesse 10^7 cm/s 1 2,7 2,5
Conduction thermique W/cmK 1,5 3,8 1,3

Comparé aux dispositifs du silicium (SI), les dispositifs de puissance de carbure de silicium (sic) peuvent effectivement réaliser le rendement élevé, la miniaturisation et le poids léger des systèmes électroniques de puissance. La déperdition d'énergie des dispositifs de puissance de carbure de silicium est seulement 50% de cela des dispositifs de SI, la génération de chaleur est seulement 50% de cela des dispositifs de silicium, et il a une densité plus à forte intensité. Au même niveau de puissance, le volume de modules d'alimentation de carbure de silicium est sensiblement plus petit que celui des modules d'alimentation de silicium. La prise le module d'alimentation intelligent IPM comme exemple, utilisant des dispositifs de puissance de carbure de silicium, du volume de module peut être réduite à 1/3 à 2/3 de modules d'alimentation de silicium.

Il y a 3 types de diodes de puissance de carbure de silicium : Diodes de Schottky (SBD), diodes pin et diodes de Schottky de contrôle de barrière de jonction (JBS). L'en raison de la barrière de Schottky, SBD a une taille inférieure de barrière de jonction, ainsi le SBD a l'avantage de la basse tension en avant. L'émergence du SBD de carbure de silicium a augmenté la gamme d'application du SBD de 250V à 1200V. En même temps, ses caractéristiques à hautes températures sont bonnes, de la température ambiante à 175°C ont limité par la coquille, les augmentations actuelles de fuite inverse à peine. Dans le domaine d'application des redresseurs au-dessus de 3kV, le PiN de carbure de silicium et les diodes du carbure de silicium JBS ont attiré l'attention due à leur tension claque plus élevée, vitesse plus rapidement de changement, plus petit volume et poids plus léger que des redresseurs de silicium.

Les dispositifs de transistor MOSFET de puissance de carbure de silicium ont la résistance idéale de porte, représentation de changement ultra-rapide, bas sur-résistance et de forte stabilité. C'est le dispositif préféré dans le domaine des dispositifs de puissance au-dessous de 300V. On signale qu'un transistor MOSFET de carbure de silicium avec une tension de blocage de 10kV a été avec succès développé. Les chercheurs croient que le transistor MOSFET de carbure de silicium occupera une position avantageuse dans le domaine de 3kV à 5kV.

Les transistors bipolaires isolés de porte de carbure de silicium (sic BJT, sic IGBT) et les thyristors de carbure de silicium (sic thyristor), dispositifs de type p du carbure de silicium IGBT avec une tension de blocage de 12kV ont la bonne capacité actuelle en avant. La sur-résistance des dispositifs du carbure de silicium IGBT peut être comparée aux dispositifs de puissance unipolaires de carbure de silicium. Comparé aux transistors bipolaires de SI, les transistors sic bipolaires ont commutant 20-50 fois plus bas des pertes et la chute de tension inférieure de conduction. Le carbure de silicium BJT est principalement divisé en émetteur épitaxial et émetteur implanté par ion BJT, et le gain actuel typique est entre 10-50.

2. les substrats classent de la norme

spécifications de substrat de carbure de silicium de 4 po. de diamètre (sic)
Catégorie		Catégorie zéro de MPD	Catégorie de production	Catégorie de recherches	Catégorie factice
Diamètre		76,2 mm±0.3 millimètre
Épaisseur		350 μm±25μm (l'épaisseur 200-2000um est également correcte)
Orientation de gaufrette		Outre de l'axe : 4.0° vers <1120> ±0.5° pour la taille 4H-N standard
Densité de Micropipe		cm2 ≤1	cm2 ≤5	cm2 ≤15	cm2 ≤50
Résistivité	4H-N	0.015~0.028 Ω•cm
	6H-N	0.02~0.1 Ω•cm
	4/6H-SI	≥1E5 Ω·cm
Appartement primaire et longueur		{10-10} ±5.0°, 32,5 mm±2.0 millimètre
Longueur plate secondaire		18.0mm±2.0 millimètre
Orientation plate secondaire		Silicium récepteur : Onde entretenue de 90°. de ±5.0° plat principal
Exclusion de bord		3 millimètres
TTV/Bow /Warp		≤15μm/≤25μm/≤40μm
Rugosité		Ra≤1 polonais nanomètre, CMP Ra≤0.5 nanomètre
Fissures par la lumière de forte intensité		Aucun		1 laissé, ≤2 millimètre	≤ cumulatif 10mm, length≤2mm simple de longueur

Plats de sortilège par la lumière de forte intensité		Secteur cumulatif ≤1%		Secteur cumulatif ≤1%	Secteur cumulatif ≤3%
Régions de Polytype par la lumière de forte intensité		Aucun		Secteur cumulatif ≤2%	Secteur cumulatif ≤5%

Sic gaufrette et lingots 2-6inch et toute autre taille adaptée aux besoins du client peut également être fourni.

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de 3inch 4inch 2inch 0.35mm DSP de silicium 4h-N de carbure gaufrettes extérieures sic 0

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La livraison et paquet

de 3inch 4inch 2inch 0.35mm DSP de silicium 4h-N de carbure gaufrettes extérieures sic 3

FAQ

Q1. Votre société est-elle une usine ou une société commerciale ?
Nous sommes l'usine et nous pouvons également faire l'exportation.
Q2.Is vous seul travail de société avec sic des affaires ?
oui ; cependant nous n'élevons pas sic l'en cristal par individu.
Q3. Pourriez-vous fournir l'échantillon ?
Oui, nous pouvons fournir l'échantillon de saphir selon l'exigence de client
Q4. Avez-vous des actions sic des gaufrettes ?
nous maintenons habituellement quelques gaufrettes de taille standard sic des gaufrettes 2-6inch dans les actions
Q5.Where est votre société localisée.
Notre société située à Changhaï, Chine.
Q6. Combien de temps prendra pour obtenir les produits.
Généralement cela prendra 3~4 semaines pour traiter. Il est de dépendre l'et de taille des produits.

Étiquettes:

Gaufrette de nitrure de gallium

Gaufrette de saphir

Sic substrat

Saphir Windows optique

Gaufrette de silicium d'IC

Saphir synthétique Rod

Plat de quartz fondu

Pièces de saphir

Pierre gemme synthétique

Équipement de semi-conducteur

Gaufrette LiNbO3

Gaufrette de GaAs

Gaufrette de phosphure d'indium

substrat en céramique

Emballage de laboratoire

Gaufrette de nitrure de gallium

Gaufrette de saphir

Sic substrat

Saphir Windows optique

Gaufrette de silicium d'IC

Saphir synthétique Rod

Plat de quartz fondu

Pièces de saphir

Pierre gemme synthétique

Équipement de semi-conducteur

Gaufrette LiNbO3

Gaufrette de GaAs

Gaufrette de phosphure d'indium

substrat en céramique

Emballage de laboratoire

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de 3inch 4inch 2inch 0.35mm DSP de silicium 4h-N de carbure gaufrettes extérieures sic

de silicium 4h-N de carbure gaufrettes sic

Gaufrette extérieure de carbure de silicium de DSP

gaufrette de carbure de silicium de 0.35mm

sic gaufrette

sic substrat

substrat de carbure de silicium

Plaquette SiC HPSI 2-12 pouces de qualité optique pour lunettes IA/RA

Composant optique à miroir SiC à haute pureté poli à double face pour micro-miroir MEMS

Gaufrette de nitrure de gallium

Gaufrette de saphir

Sic substrat

Saphir Windows optique

Gaufrette de silicium d'IC

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de silicium 4h-N de carbure gaufrettes sic

Gaufrette extérieure de carbure de silicium de DSP

gaufrette de carbure de silicium de 0.35mm

sic gaufrette

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substrat de carbure de silicium

​​Plaquette SiC HPSI 2-12 pouces de qualité optique pour lunettes IA/RA​​

Composant optique à miroir SiC à haute pureté poli à double face pour micro-miroir MEMS

Plaquette SiC HPSI 2-12 pouces de qualité optique pour lunettes IA/RA