Aperçu Produits Sic substrat

de 4inch 6Inch 4H-N 500mm 350um SIC de gaufrette de silicium de carbure catégorie factice principale de substrat sic

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de 4inch 6Inch 4H-N 500mm 350um SIC de gaufrette de silicium de carbure catégorie factice principale de substrat sic

Image Grand : de 4inch 6Inch 4H-N 500mm 350um SIC de gaufrette de silicium de carbure catégorie factice principale de substrat sic

Détails sur le produit:

Lieu d'origine:	La Chine
Nom de marque:	zmsh
Numéro de modèle:	6inch-001

Conditions de paiement et expédition:

Quantité de commande min:	1pcs
Prix:	by case by FOB
Détails d'emballage:	Emballé dans un environnement de pièce propre de la classe 100, dans des cassettes de conteneurs sim
Délai de livraison:	dans 40days
Capacité d'approvisionnement:	50pcs/months

Contact

Description de produit détaillée

applications:	dispositif, mené, 5G, détecteur, l'électronique de puissance	industrie:	gaufrette de semicondctor
matériel:	semi-conducteur sic	couleur:	vert ou blanc ou bleu
dureté:	9,0	type:	4H, 6H, enduit, NO--enduit,
Mettre en évidence:	substrat de carbure de silicium de semicondctor , Substrat de 6 pouces sic , De catégorie gaufrette factice sic

de 4inch 6Inch 4H-N 500mm 350um SIC de gaufrette de silicium de carbure catégorie factice principale de substrat sic

gaufrette du substrat 350um de 6inch 4H-N 500mm sic pour le dispositif de poudre

6 po. de diamètre, spécifications de substrat de carbure de silicium (sic)
Catégorie		Catégorie zéro de MPD	Catégorie de production	Catégorie de recherches	Catégorie factice

Diamètre		150,0 mm±0.2mm

ThicknessΔ		350 μm±25μm ou 500±25un

Orientation de gaufrette		Outre de l'axe : 4.0° vers< 1120=""> ±0.5° pour l'axe de 4 H-N On : <0001> ±0.5° pour 6H-SI/4H-SI

Appartement primaire		{10-10} ±5.0°

Longueur plate primaire		47,5 mm±2.5 millimètre

Exclusion de bord		3 millimètres

TTV/Bow /Warp		≤15μm/≤40μm/≤60μm

Densité de Micropipe		cm2 ≤1	cm2 ≤5	cm2 ≤15	cm2 ≤100

Résistivité	4H-N	0.015~0.028 Ω·cm

	4/6H-SI	≥1E5 Ω·cm

Rugosité		Ra≤1 polonais nanomètre

		CMP Ra≤0.5 nanomètre

Fissures par la lumière de forte intensité		Aucun		1 laissé, ≤2 millimètre	≤ cumulatif 10mm, length≤2mm simple de longueur

Plats de sortilège par la lumière de forte intensité		Secteur cumulatif ≤1%		Secteur cumulatif ≤2%	Secteur cumulatif ≤5%

Régions de Polytype par la lumière de forte intensité		Aucun		Area≤2% cumulatif	Area≤5% cumulatif

Éraflures par la lumière de forte intensité		3 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer		5 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer	5 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer


Puce de bord		Aucun		3 laissés, ≤0.5 millimètre chacun	5 laissés, ≤1 millimètre chacun

Contamination par la lumière de forte intensité		Aucun

Au sujet de notre société

CHANGHAÏ Cie. COMMERCIALE CÉLÈBRE, Ltd place dans la ville de Changhaï, qui est la meilleure ville de la Chine, et notre usine est fondée dans la ville de Wuxi en 2014.

Nous nous spécialisons en transformant un grand choix de matériaux en gaufrettes, substrats et parts.components en verre optique custiomized très utilisés dans l'électronique, l'optique, l'optoélectronique et beaucoup d'autres domaines. Nous également avions travaillé étroitement avec beaucoup de domestiques et les universités, les instituts de recherche et les sociétés d'outre-mer, fournissent les produits et services adaptés aux besoins du client pour leurs projets de R&D.

C'est notre vision à maintenir de bonnes relations de coopération avec nos tous les clients par nos bons reputatiaons.