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Substrate de gaufre épitaxienne SiC Applications industrielles de semi-conducteurs 4H-N

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Substrate de gaufre épitaxienne SiC Applications industrielles de semi-conducteurs 4H-N

SiC Epitaxial Wafer Substrate Semiconductor Industrial Applications 4H-N

Image Grand :  Substrate de gaufre épitaxienne SiC Applications industrielles de semi-conducteurs 4H-N

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: ZMSH
Certification: rohs
Numéro de modèle: Substrat SiC
Conditions de paiement et expédition:
Packaging Details: customzied plastic box
Délai de livraison: 2 à 4 semaines
Payment Terms: T/T
Description de produit détaillée
Dureté de surface: HT0,3>2500 Voltage de rupture: 5,5 MV/cm
Résistance à la traction: >400MPa Type de substrat: Substrate
Densité: 3.21 G/cm3 Dopant: N/A
Taille: Personnalisé Coefficient de dilatation thermique: 4,5 X 10-6/K
Mettre en évidence:

Substrate de plaquette épitaxiale SiC à semi-conducteurs

,

Substrate SiC à polissage à double face pour semi-conducteurs

,

Substrate de plaquette épitaxiale SiC industrielle

Substrate de plaquette épitaxielle SiC Applications industrielles dans le secteur des semi-conducteurs 4H-N

Description du produit:

Le carbure de silicium (Substrate à base de SiCLa méthode de fabrication de l'abrasif a été découverte en 1893 comme abrasif industriel pour les roues de meulage et les freins d'automobiles.Substrate à base de SiCDepuis lors, il s'est étendu à de nombreuses applications de semi-conducteurs en raison de ses propriétés physiques avantageuses.Ces propriétés sont évidentes dans son large éventail d'utilisations dans et en dehors de l'industrie des semi-conducteurs.Avec la loi de Moore qui semble atteindre sa limite, de nombreuses entreprises de l'industrie des semi-conducteurs se tournent vers le carbure de silicium comme le matériau de semiconducteur du futur.
Substrate à base de SiCLe SiC peut être produit en utilisant plusieurs polytypes de SiC, bien que dans l'industrie des semi-conducteurs, la plupart des substrats soient 4H-SiC, le 6H- devenant moins courant à mesure que le marché du SiC a augmenté.Lorsqu'il s'agit de carbure de silicium 4H et 6H, le H représente la structure du réseau cristallin. Le nombre représente la séquence d'empilement des atomes dans la structure cristalline. Ceci est décrit dans le tableau des capacités SVM ci-dessous.

Caractéristiques:

ParamètreValeurUnitéDéfinition
Dureté9.5Dureté de MohsDureté extrêmement élevée, adaptée aux applications résistantes à l'usure
Densité3.21g/cm3Densité élevée, adaptée aux environnements à haute température et haute pression
Résistance électrique10^3 à 10^11O·cmDépend du niveau de dopage, adapté aux applications haute tension
Conductivité thermique490Nombre d'étoilesHaute conductivité thermique, adaptée à l'électronique de puissance nécessitant une dissipation thermique efficace
Coefficient de dilatation thermique4.0 × 10^-6- Je ne sais pas.Faible coefficient de dilatation thermique, assure la stabilité dimensionnelle sous les variations de température
Indice de réfraction2.55 contre 2.75Sans dimensionApplicable dans les applications optiques, en particulier dans la gamme visible à proche infrarouge

Applications:

Le 4H-N SiC (carbure de silicium) est un matériau semi-conducteur largement utilisé dans les appareils électroniques hautes performances en raison de son excellente conductivité thermique,propriétés électriques et stabilité chimique.Surtout dans les environnements à haute température, haute pression ou haute fréquence, les caractéristiques du 4H-N SiC en font un choix idéal.Ce matériau est principalement utilisé dans la fabrication d'appareils de puissance de haute performance et de composants électroniques tels que les diodes Schottky,Transistors à effet de champ à semi-conducteurs à oxyde métallique (MOSFET) et transistors bipolaires à porte isolée (IGBT).En outre, le 4H-N SiC est également utilisé dans la production de lumières LED et de composants pour les systèmes de communication haute fréquence,car il peut réduire efficacement la consommation d'énergie du système et améliorer les performances et la fiabilité globales.
Le ZMSH SIC010 est polyvalent et peut être utilisé dans une variété d'industries.Les boîtes en plastique personnalisées facilitent le transport et le stockage des plaquettes en carbure de silicium.

Personnalisation:

Services de personnalisation des produits de substrat de ZMSH SIC:

  • Plaques SiC de forme personnalisée disponibles
  • Des puces SiC de taille personnalisée sont disponibles
  • Disponibles également en plaquettes de carbure de silicium

Attributs du produit:

Nom de marqueZMSH
Conditions de paiementT/T
Quantité minimale de commande10 pour cent
Roughness de la surfaceRa < 0,5 nm
Résistance à la compression> 1000 MPa
Résistance à la traction> 400 MPa

Emballage et expédition

Emballage du produit:
Le produit à base de substrat SiC sera soigneusement enveloppé dans un rembourrage en mousse pour assurer sa sécurité pendant l'expédition.Le substrat enveloppé sera ensuite placé dans une boîte en carton solide et scellé pour éviter tout dommage pendant le transport.
Pour la navigation:
Le produit de substrat SiC sera expédié par un service de messagerie fiable qui fournit des informations de suivi, telles que DHL ou FedEx.Les frais d'expédition dépendront de la destination et du poids du colis.Le temps de livraison estimé dépendra également de l'emplacement du destinataire.

Coordonnées
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Personne à contacter: Mr. Wang

Téléphone: +8615801942596

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