Disque de saphir personnalisé Laveuse de saphir synthétique Polissage sans bulles résistant à l'usure

Disque en saphirDéfinition

Disque de saphir personnalisé Laveuse de saphir synthétique Polissage sans bulles résistant à l'usure

 
 

Les rondelles en saphir sont fabriquées à partir d'Al2O5 monocristallin, offrant une dureté exceptionnelle, une résistance à la corrosion et une stabilité thermique, ce qui les rend idéales pour l'étanchéité, l'isolation,et support de précision dans des environnements extrêmes.

 

Les laveuses en saphir peuvent être fabriquées avec des diamètres extérieurs et intérieurs plus grands pour s'adapter à des applications plus larges.la résistance à la compression du matériau lui permet de résister à la plupart des conditions de fonctionnement.

 

 

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Disque en saphirpropriétés

 

-Dureté ultra-haute:Dureté de Mohs de 9 (seconde après le diamant), résistant aux rayures.

 

-Résistance à la corrosion chimique:Résistant aux acides/alcalins forts (sauf HF).

 

-Résistance à haute température:Fonctionnant jusqu'à 1800°C (à court terme).

 

-Faible coefficient de frottement:Surface polie à Ra < 0,01 μm, réduisant l'usure.

 

-Propriétés isolantes:Résistance > 1014 Ω·cm.

 

 

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Disque en saphir l'application

 

·Équipement de semi-conducteurs:Composants isolants d'étanchéité pour outils de traitement des plaquettes.

 

·Systèmes sous vide:Les rouleaux à haute température pour les chambres à vide élevé.

 

·Produits médicaux:Composants résistants à la corrosion pour instruments chirurgicaux.

 

·Instruments optiques:Des espaceurs de précision et des isolants laser.

 

 

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Disque en saphircomposantes

 

 

 

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Questions fréquentes

1. Q: Pourquoi choisir des laveuses en saphir plutôt que des alternatives en métal ou en céramique?
R: Les laveuses en saphir offrent une résistance à l'usure inégalée (Mohs 9), une stabilité à température extrêmement élevée (1800°C) et une inerté chimique parfaite (sauf HF).

2Q: Quelles industries ont besoin de laveuses à joints en saphir?
R: Applications critiques dans le traitement des semi-conducteurs (CMP), les chambres à vide ultra-haute, les dispositifs médicaux implantables et les systèmes laser de précision.

 
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