Pins de levage en saphir de précision monocristallins Al2O3 résistant à l'usure pour le positionnement des plaquettes de haute précision
Les broches élévatrices en saphir sont des composants mécaniques de précision fabriqués à partir de saphir monocristallin de haute pureté, conçus pour un positionnement de haute précision, une résistance à haute température,et les applications à forte intensité d'usure . ZMSH fournit des services de personnalisation de paramètres complets (y compris le diamètre, la longueur, la rugosité de surface et l'optimisation de l'orientation cristallographique),support de la livraison rapide de petits lots pour répondre aux exigences extrêmes de performance des semi-conducteurs, médical, aérospatiale et industrielle.
Caractéristiques principales
1. résistance mécanique ultra-haute: avec une résistance à la compression supérieure à 300 000 psi, ces broches résistent aux charges de levage à haute fréquence (par exemple,Systèmes de traitement des plaquettes de 12 pouces dans la fabrication de semi-conducteurs).
Stabilité à haute température: fonctionne en continu à 1 500°C et tolère une exposition à court terme jusqu'à 2 050°C (idéal pour le soudage au laser ou le positionnement de la chambre de combustion).
3Faible coefficient de frottement: les coefficients de frottement après polissage < 0,15 réduisent au minimum les pertes d'énergie lors d'un mouvement de précision (par exemple, les réglages de stade de lithographie).
Inerté chimique: résistant aux acides forts, aux alcalis et aux solvants organiques, adapté aux salles blanches et aux environnements de gravure des semi-conducteurs.
Paramètres techniques
| Composition chimique |
Al2O3 monocristallin |
| Dureté |
9Mohs |
| Nature optique |
Uniaxial |
| Indice de réfraction |
1.762-1. Je vous en prie.770 |
| Birefringence |
0Une.008-0.010 |
| Dispersion |
Faible, à 0.018 |
| Lumière |
Les produits visés à l'annexe II |
| Pleochroïsme |
Modéré à fort |
| Diamètre |
0.4 mm à 30 mm |
| Tolérance au diamètre |
0.004 mm-0.05 mm |
| longueur |
2 mm à 150 mm |
| tolérance de longueur |
00,03 mm à 0,25 mm |
| Qualité des surfaces |
40/20 |
| Rondeur de la surface |
RZ0. Je vous en prie.05 |
| Forme personnalisée |
les deux extrémités sont plates, le rayon d'une extrémité, le rayon des deux extrémités,
épingles de selle et formes spéciales |
Applications principales
(1) Fabrication de semi-conducteursJe suis désolée.
Je suis désolée.· Systèmes de manutention des plaquettes : atteindre une précision de positionnement de ± 1 μm dans les usines de wafers de 12 pouces, avec une durée de 200 cycles/heure.
Je suis désolée.· Photolithographie étalonnage du stade : Compenser l'expansion thermique des plaquettes de silicium (coefficient d'expansion thermique: 5,3 × 10−7/°C) par des ajustements à l'échelle nanométrique.
Je suis désolée.(2) Dispositifs médicauxJe suis désolée.
Je suis désolée.· Catéters robotiques chirurgicaux : Les tubes à paroi ultra-mince (< 50 μm) permettent des interventions vasculaires peu invasives sans endommagement des tissus.
Je suis désolée.· Étalonnage des équipements de radiothérapie : Ajustez les points focaux du rayonnement avec une précision de ± 0,01 mm dans les systèmes de protonthérapie.
Je suis désolée.(3)Aérospatiale et défenseJe suis désolée.
Je suis désolée.· Contrôle du vecteur de fusée.: déployés dans des mécanismes de réglage de l'orientation, résistant au cycle thermique de -196°C à 1200°C.
· Systèmes optiques par satellite : Protéger les charges utiles extérieures lors de missions dans l'espace lointain, en maintenant la fonctionnalité sous vide et radiation.
Je suis désolée.(4) Industrie et recherche Je suis désolée.
Je suis désolée.· Les étapes de la microscopie électronique : permettre un positionnement ±5 nm dans un environnement à vide de 10−10 mbar.
· Réacteurs de fusion nucléaire : Résister à l'irradiation à neutrons (> 1015 n/cm2) et à l'érosion du plasma pendant > 100 000 cycles.
Questions fréquentes
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