Sapphire Blanc 118 mm × 74 mm × 8 mm Haute dureté pour les fenêtres infrarouges

Ébauche de saphir 118mm×74mm×8mm Haute dureté pour fenêtres infrarouges

Les ébauches/substrats de saphir désignent des matériaux en forme de plaque carrée ou circulaire obtenus par orientation, découpe et meulage grossier de grosses boules de saphir. Elles n'ont pas encore subi de processus de polissage de précision final (CMP) ou de structuration et servent de produits semi-finis intermédiaires pour la fabrication de divers produits finis en saphir, tels que des plaquettes, des fenêtres optiques et des plaques de recouvrement. Le matériau de base est l'oxyde d'aluminium α- (α-Al₂O₃) monocristallin avec une structure cristalline régulière.

Introduction des services ZMSH : Nous sommes spécialisés dans la recherche, le développement et la fabrication de matériaux cristallins haute performance. En plus de fournir des ébauches/substrats de saphir de diverses spécifications, notre société possède de solides capacités d'usinage de précision pour produire des plaquettes de saphir (pour les LED et les Micro-LED), des fenêtres/dômes optiques en saphir (pour les équipements photoélectriques et les applications militaires), des tiges/tubes en saphir (pour les revêtements de chambre d'équipement à semi-conducteurs) et des composants en saphir de forme personnalisée selon les dessins des clients. Nous nous engageons à offrir une solution unique, de la croissance des cristaux à la transformation de précision.

Caractéristiques des ébauches de saphir

1. Dureté extrême et résistance à l'usure :La dureté Mohs des ébauches de saphir peut atteindre 9, juste après le diamant, ce qui les rend très résistantes aux rayures et extrêmement durables.
2. Excellentes performances optiques :Haute transmittance des ébauches de saphir sur les longueurs d'onde ultraviolettes à infrarouges (0,15–5,5 μm), ce qui en fait un matériau idéal pour les fenêtres optiques.
3. Stabilité physique et chimique exceptionnelle :Résistance aux hautes températures des ébauches de saphir (point de fusion de 2053°C), résistance aux chocs thermiques et forte inertie chimique. Insolubles dans les acides et alcalis forts, à l'exception de l'acide fluorhydrique et de l'acide phosphorique chaud.
4. Bonne isolation électrique et propriétés diélectriques :Un excellent isolant avec des constantes diélectriques stables.
5. Pureté élevée et faible densité de défauts :Les ébauches de saphir, en tant que matériau monocristallin, présentent un minimum de défauts internes et une pureté extrêmement élevée, garantissant l'absence de contamination dans les environnements de traitement.

Principaux domaines d'application des ébauches de saphir

① Éclairage à semi-conducteurs (LED) :Le principal matériau de substrat pour la croissance épitaxiale des LED à base de GaN. Plus de 90 % des puces LED mondiales utilisent des substrats en saphir.

② Électronique grand public :Utilisé comme couvercles d'objectif d'appareil photo pour smartphones, couvercles de capteurs d'empreintes digitales et couvercles d'écran pour les appareils portables haut de gamme comme l'Apple Watch, tirant parti de ses propriétés résistantes aux rayures.

③ Applications optiques et militaires :Employé dans les radômes de missiles, les fenêtres infrarouges, les nacelles électro-optiques et les fenêtres laser, où il doit résister à des conditions extrêmes telles que la vitesse élevée, la température élevée et l'érosion par la pluie.

④ Recherche industrielle et scientifique :Utilisé comme fenêtres d'observation pour les équipements à semi-conducteurs, les fenêtres de lecteurs de codes-barres, les hublots haute température et les substrats pour les instruments scientifiques.

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1. Q : À quoi sert un substrat de saphir ?
     R : Il est principalement utilisé comme matériau de base pour la croissance des puces LED à base de GaN et comme couvercles de protection dans l'électronique grand public haut de gamme.

2. Q : Pourquoi le saphir est-il utilisé dans la fabrication de LED ?
     R : Le saphir offre une excellente stabilité thermique, une dureté élevée et une structure cristalline compatible avec le GaN, ce qui le rend idéal pour la production de LED à haute luminosité.

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