| Nom De Marque: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Délai De Livraison: | 2-4 SEMAINES |
| Conditions De Paiement: | T/T |
La ligne d'automatisation de polissage de plaquettes de semi-conducteurs de 6 à 8 pouces est un système de production post-polissage entièrement intégré, conçu pour les plaquettes de silicium et de carbure de silicium (SiC).
Elle combine le polissage à quatre têtes, le démontage automatique des plaquettes, la gestion des supports en céramique, le nettoyage de précision et le remontage des plaquettes de haute précision en une seule plateforme d'automatisation en boucle fermée.
Ce système permet un traitement continu des plaquettes, contrôlé par la contamination et à haut rendement, ce qui le rend idéal pour les usines de semi-conducteurs de puissance, les fabricants de substrats SiC et les lignes de plaquettes d'emballage avancées.
![]()
L'ensemble de la ligne se compose de quatre modules de processus hautement coordonnés :
Après le polissage quadruple, les plaquettes sont automatiquement séparées des supports en céramique à l'aide d'algorithmes de mouvement contrôlés à faible contrainte, ce qui permet d'éviter :
Écaillage des bords
Micro-fissures
Dommages dus aux contraintes résiduelles
Ceci est particulièrement important pour les plaquettes SiC fragiles et de grande valeur.
![]()
Les supports en céramique sont automatiquement triés, stockés et expédiés.
Le système tampon permet :
Un fonctionnement continu de la ligne de polissage
Compatibilité multi-spécifications des supports
Contrôle stable du temps de cycle
Ceci élimine les interruptions de production causées par la manipulation manuelle ou le manque de supports.
![]()
Avant le remontage, chaque support en céramique subit un nettoyage de précision en profondeur pour éliminer :
La suspension de polissage
Les particules submicroniques
Les résidus chimiques
Ceci garantit une surface reproductible et sans contamination pour chaque nouveau cycle de montage de plaquettes.
![]()
Les plaquettes sont montées sur des supports nettoyés avec :
Une pression contrôlée
Un alignement submicronique
Un contrôle de planéité ultra-élevé
Ceci fournit la condition initiale idéale pour l'étape de polissage quadruple suivante, améliorant directement l'uniformité du polissage et la qualité finale des plaquettes.
![]()
Propreté de la zone de montage :
≥ 0,5 µm particules : < 50 ea
≥ 5 µm particules : < 1 ea
Entièrement conforme aux normes de fabrication avancées des semi-conducteurs de puissance et du SiC.
Planéité de montage ≤ 2 µm
Ceci garantit :
Une pression de polissage uniforme
Des taux d'enlèvement de matière stables
Une uniformité d'épaisseur supérieure
Essentiel pour les dispositifs de puissance haute performance et les plaquettes d'emballage avancées.
| Taille des plaquettes | Diamètre du support | Plaquettes par support | Temps de cycle |
|---|---|---|---|
| 6 pouces | 485 mm | 6 plaquettes | 3 min / support |
| 6 pouces | 576 mm | 8 plaquettes | 4 min / support |
| 8 pouces | 485 mm | 3 plaquettes | 2 min / support |
| 8 pouces | 576 mm | 5 plaquettes | 3 min / support |
Le système permet aux fabricants d'équilibrer le débit, le coût et la qualité de surface en fonction de leur stratégie de production.
Taille des plaquettes : plaquettes de silicium et de SiC de 6 à 8 pouces
Dimensions de l'équipement : 13 643 × 5 030 × 2 300 mm (L × l × H)
Alimentation : CA 380 V, 50 Hz
Consommation électrique totale : Environ 119 kW
Planéité de montage : ≤ 2 µm
Propreté de montage :
≥0,5 µm < 50 ea, ≥5 µm < 1 ea
Plaquettes de semi-conducteurs de puissance Si et SiC (MOSFET, IGBT, diodes)
Substrats et plaquettes épitaxiales SiC
Plaquettes d'emballage avancées et d'interposeur
Plaquettes polies de qualité dispositif de précision
Assistance technique à distance et sur site 24 h/24 et 7 j/7
Réponse dans les 2 heures
Arrivée sur site : dans les 24 heures (local) / 36 heures (non local)
Réparation et service sous garantie gratuits
Maintenance à vie et assistance pour les pièces de rechange
Pièces de rechange critiques toujours en stock
Visites régulières de maintenance préventive par des ingénieurs sur le terrain
Oui. Le système est spécialement optimisé pour les plaquettes de silicium et de carbure de silicium. Les profils de mouvement, la pression de montage et les trajectoires de démontage sont réglés pour gérer en toute sécurité la dureté et la fragilité élevées du SiC.
En combinant des supports ultra-propres, un montage à haute planéité et une manipulation entièrement automatisée, le système minimise :
La contamination par les particules
Le gauchissement des plaquettes
La non-uniformité de la pression
Ceci conduit à un polissage plus stable, à des taux de casse plus faibles et à un rendement des plaquettes plus élevé.
Oui. Le tampon de support et la logistique automatisée sont conçus pour permettre un fonctionnement continu 24 h/24 et 7 j/7, ce qui permet au polisseur quadruple de fonctionner sans attendre le chargement ou le nettoyage manuel.