SiC lié par réaction (RBSiC) / SiC recristallisé (RSiC)
Forme:
Rond / Carré / Rectangulaire / Personnalisable
Température de travail maximale:
1400℃ – 1700℃ (par qualité de matériau)
Finition de surface:
Mat tel que cuit / Meulé fin / Usiné avec précision
Application:
Recuit de tranche de semi-conducteur/frittage en céramique/four à hautes températures
Structure:
Assiette Plate / À Bord Surélevé / Rainurée / Empilable
Description de produit
Product Overview SiC Tray (Silicon Carbide Tray) is a high-performance high-temperature bearing component made of polycrystalline silicon carbide engineering ceramic, manufactured via advanced sintering processes including Reaction Bonded (RBSiC), Recrystallized (RSiC) and Silicon Nitride Bonded (N-SiC) technologies. As an upgraded alternative to traditional alumina ceramic trays and fused quartz trays, it features outstanding high-temperature resistance, excellent thermal