Dossier: Découvrez l'équipement de rectification/polissage double face de haute précision, conçu pour les matériaux durs et fragiles comme le saphir, le verre et le quartz. Obtenez des résultats ultra-précis avec une planéité ≤ 0,6 μm et une rugosité Ra ≤ 0,4 nm. Idéal pour les industries des semi-conducteurs, de l'optoélectronique et de l'aérospatiale.
Caractéristiques Du Produit Connexes:
Spécialisé pour les matériaux fragiles tels que le saphir, le verre, le quartz et les plaquettes semi-conducteurs.
Atteint une planéité élevée (TTV ≤ 0,6 μm) et une faible rugosité (Ra ≤ 0,4 nm).
Comporte deux plateaux de broyage rotatifs en sens opposés pour un traitement uniforme.
Le mécanisme de mouvement planétaire assure un contact synchrone avec les deux plaques.
Le réglage de la pression en boucle fermée (de 0 à 1 000 kg réglable) empêche la fracture du matériau.
Les systèmes de refroidissement à l'eau et à l'huile maintiennent une température constante (10-25°C).
Composants de base de marques internationales comme SEW, THK et SKF.
HMI à écran tactile de 7 pouces pour les recettes de broyage prédéfinies et la surveillance en temps réel.
FAQ:
Quels sont les matériaux adaptés aux machines de meulage/polirage à double face de haute précision?
spécialement conçus pour les matériaux durs et fragiles tels que le saphir, le verre optique, les cristaux de quartz, la céramique, les plaquettes de silicium semi-conducteurs et les métaux,supportant un traitement à extrême précision simultanée à double face.
Quels niveaux de précision les rectifieuses double face peuvent-elles atteindre ?
Plateur ≤2 μm, rugosité de surface Ra <0,4 nm, tolérance d'épaisseur ±0,5 μm, répondant aux exigences de haut niveau pour les plaquettes semi-conducteurs et les composants optiques.
Quelles industries bénéficient de cet équipement?
Largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique, les machines de précision et les industries aérospatiales pour des applications telles que l'amincissement des plaquettes de silicium, la finition des miroirs des composants optiques,et broyage de précision des anneaux d'étanchéité en céramique.