Détails de produit
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: ZMSH
Numéro de modèle: Substrat SiC
Conditions de paiement et d'expédition
Délai de livraison: 2 à 4 semaines
Conditions de paiement: T/T
Matériel: |
Monocristal de SiC |
Taper: |
Type 4H-N |
Je vous en prie.: |
100 mm |
Épaisseur: |
350 mm |
orientation: |
À l'extérieur de l'axe: 4° vers <1120> |
Grade: |
Grade P ou D |
Matériel: |
Monocristal de SiC |
Taper: |
Type 4H-N |
Je vous en prie.: |
100 mm |
Épaisseur: |
350 mm |
orientation: |
À l'extérieur de l'axe: 4° vers <1120> |
Grade: |
Grade P ou D |
- UtilisezMonocristal de SiCpour la fabrication
- Soutenir les personnalisés avec des illustrations de design
- Des performances exceptionnelles, une large bande passante et une grande mobilité électronique
- Dureté supérieure, 9,2 sur l'échelle de Mohs pour la résistance aux rayures
- Largement utilisé dansLes secteurs technologiques tels que l'électronique de puissance, les LED et les capteurs.
À propos de 4H-N SiC
Le substrat SiC fait référence à une gaufre en carbure de silicium (SiC), qui est un matériau semi-conducteur à large bandeau qui a d'excellentes propriétés électriques et thermiques.
Les substrats de SiC sont couramment utilisés comme plate-forme pour la croissance de couches épitaxales de SiC ou d'autres matériaux pouvant être utilisés pour fabriquer divers dispositifs électroniques et optoélectroniques,comme les transistors à haute puissance, les diodes Schottky, les photodétecteurs UV et les LED.
Les substrats SiC sont préférés aux autres matériaux semi-conducteurs, tels que le silicium, pour les applications électroniques à haute puissance et à haute température en raison de leurs propriétés supérieures.y compris une tension de rupture plus élevée, une conductivité thermique plus élevée et une température de fonctionnement maximale plus élevée.
Les appareils SiC peuvent fonctionner à des températures beaucoup plus élevées que les appareils à base de silicium, ce qui les rend appropriés pour une utilisation dans des environnements extrêmes, tels que dans les applications automobiles, aérospatiales et énergétiques.
*Détails suivants:
Grade | Grade de production | Grade de factice | |
Diamètre | 150.0 mm +/- 0,2 mm | ||
Épaisseur | 500 μm +/- 25 μm pour le 4H-SI350 μm +/- 25 μm pour le 4H-N | ||
Orientation de la gaufre | Sur l'axe: <0001> +/- 0,5 degré pour l'axe 4H-SIOff: 4,0 degrés vers <11-20> +/- 0,5 degré pour 4H-N | ||
Densité des micropipes (MPD) | 5 cm à 2 | 30 cm-2 | |
Concentration de dopage | Le type N: ~ 1E18/cm3SI-type (dopé en V): ~ 5E18/cm3 | ||
Le type de véhicule doit être identifié comme étant le véhicule de type N. | {10-10} +/- 5,0 degrés | ||
Longueur plate primaire (type N) | 47.5 mm +/- 2,0 mm | ||
Encastrement (type semi-isolant) | Encastrement | ||
Exclusion des bords | 3 mm | ||
TTV /Bow /Warp | 15um /40um /60um | ||
Roughness de la surface | Ra polonais 1 nm | ||
CMP Ra 0,5 nm sur la face de Si |
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Questions fréquemment posées sur le 4H-N SiC
1Q: Quelle est la différence entre 4H-N SiC et 4H-Semi SiC?
R: Le SiC 4H-N est un carbure de silicium non dopé de haute pureté, doté de performances électriques supérieures, adapté aux applications à haute puissance et à haute fréquence.
tandis que le 4H-Semi SiC est semi-isolateur avec des niveaux de dopage variables, conçu pour des applications nécessitant une isolation électrique.
2Q: Quelle est la conductivité thermique du 4H-N SiC par rapport aux autres semi-conducteurs?
R: Le 4H-N SiC a une conductivité thermique plus élevée que beaucoup d'autres semi-conducteurs, ce qui contribue à une meilleure dissipation de chaleur et à une meilleure gestion thermique.