Envoyer le message
PRODUITS
PRODUITS
Maison > PRODUITS > Sic substrat > 4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V

4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V

Détails de produit

Lieu d'origine: Chine

Nom de marque: ZMSH

Numéro de modèle: Substrat SiC

Conditions de paiement et d'expédition

Délai de livraison: 4 à 6 semaines

Conditions de paiement: T/T

Obtenez le meilleur prix
Mettre en évidence:

4 pouces de silicium carbure SiC sous-strate

,

4H-P silicium carbure SiC sous-strate

Matériel:
Monocristal de SiC
Le type:
4H-P / 6H-P
Taille:
4 pouces
Grade:
Primo/ Dummy
personnalisé:
Soutenue
Couleur:
Noir
Matériel:
Monocristal de SiC
Le type:
4H-P / 6H-P
Taille:
4 pouces
Grade:
Primo/ Dummy
personnalisé:
Soutenue
Couleur:
Noir
4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V

Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'écoulement, comprenant les éléments suivants:8 pouces de SiC, 12 pouces SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, type HPSI


À propos du substrat SiC de type P

- supporter les personnalisés avec des illustrations de design

- un cristal hexagonal (4H SiC), fabriqué à partir de monocristal SiC

- haute dureté, dureté de Mohs atteint 9.2, juste derrière le diamant.

- une excellente conductivité thermique, adaptée aux environnements à haute température.

- des caractéristiques de large bande passante, adaptées aux appareils électroniques à haute fréquence et à haute puissance.


Description du substrat SiC de type P

Le substrat SiC de type P est un important matériau semi-conducteur largement utilisé dans les appareils électroniques à haute puissance et à haute fréquence.le substrat SiC de type P présente les caractéristiques de type P, ce qui permet au matériau de fournir une bonne conductivité électrique et une forte concentration de porteurs.Son excellente conductivité thermique et sa tension de rupture élevée lui permettent de maintenir des performances stables dans des conditions extrêmes.


Le substrat SiC de type P a une excellente stabilité à haute température et une résistance aux rayonnements et peut fonctionner normalement dans des environnements à haute température.Les substrats 4H-SiC présentent une perte d'énergie plus faible sous des champs électriques élevés et conviennent pour une utilisation dans les véhicules électriquesEn outre, l'excellente conductivité thermique contribue à améliorer l'efficacité de la dissipation thermique de l'appareil et à prolonger sa durée de vie.


Les substrats SiC de type P sont largement utilisés dans les appareils électriques, les appareils RF et les appareils optoélectroniques.

Ils sont souvent utilisés pour fabriquer des dispositifs tels que les MOSFET de type P et les IGBT pour répondre aux besoins de haute tension, haute température et haute fréquence.Les substrats SiC de type 4H-P joueront un rôle de plus en plus important dans la future électronique de puissance et les réseaux intelligents.


Détails du substrat SiC de type P

Propriété

4H-SiC de type P, cristal unique 6H-SiC de type P, cristal unique
Paramètres de la grille a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

c=15,084 Å

Séquence d'empilement Le code ABC Le code de l'équipe
Dureté de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densité 3.23 g/cm3 30,0 g/cm3
Coefficient de dilatation thermique 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Indice de réfraction @750 nm n = 2,621 né = 2.671 ne = 2,612 ne = 2.651
Constante diélectrique c~9.66 c~9.66

Conductivité thermique

3 à 5 W/cm·K@298K

3 à 5 W/cm·K@298K

Le band-gap 3.26 eV 30,02 eV
Champ électrique de rupture 2 à 5 × 106 V/cm 2 à 5 × 106 V/cm

Vitesse de dérive de saturation

2.0 × 105 m/s 2.0 × 105 m/s


Échantillons de substrat SiC de type P

4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V 04H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V 1

4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V 2


À propos de nous
Notre entreprise, ZMSH, est spécialisée dans la recherche, la production, le traitement et la vente de substrats semi-conducteurs et de matériaux cristallins optiques.
Nous avons une équipe d'ingénieurs expérimentés, une expertise en gestion, des équipements de traitement de précision et des instruments de test,nous fournissant des capacités extrêmement fortes dans le traitement de produits non standard.
Nous pouvons rechercher, développer et concevoir divers nouveaux produits en fonction des besoins des clients.
La société adhérera au principe de "centré sur le client, basé sur la qualité" et s'efforcera de devenir une entreprise de haute technologie de premier plan dans le domaine des matériaux optoélectroniques.

Recommandations de produits similaires

1.Substrate SiC au carbure de silicium 4H-SEMI épaisseur 2 pouces Wafer SiC de qualité D

4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V 3

2. 2" 3" FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Couche d'oxydation sèche et humide 100nm 300nm

4H-P Carbure de silicium SiC Substrate 4 pouces SIC Wafer 6H-P Pour le dépôt de nitrure III-V 4


Questions fréquentes

1. Q: Comparé à la N-Type, que pensez-vous de la P-Type?

R: Les substrats P-type 4H-SiC, dotés d'éléments trivalents comme l'aluminium, ont des trous comme porteurs majoritaires, offrant une bonne conductivité et stabilité à haute température.Substrats de type N, dopé avec des éléments pentavalents comme le phosphore, ont des électrons comme porteurs majoritaires, ce qui entraîne généralement une plus grande mobilité électronique et une résistivité plus faible.

2Q: Quelles sont les perspectives du marché pour le SiC de type P?
R: Les perspectives du marché du SiC de type P sont très positives, en raison de la demande croissante d'électronique de puissance haute performance dans les véhicules électriques, les systèmes d'énergie renouvelable,et des applications industrielles avancées.

Produits similaires