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6H-P Carbure de silicium SiC Substrate 6 pouces SIC Wafer 4H-P Pour les appareils optoélectroniques

Détails de produit

Lieu d'origine: Chine

Nom de marque: ZMSH

Numéro de modèle: Substrat SiC

Conditions de paiement et d'expédition

Délai de livraison: 4 à 6 semaines

Conditions de paiement: T/T

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Mettre en évidence:

Substrate SiC au carbure de silicium de 18 cm

,

6H-P carbure de silicium SiC substrat

,

Substrate SiC au carbure de silicium 4H-P

Matériel:
Monocristal de SiC
Le type:
4H-P / 6H-P
Taille:
4 pouces
Grade:
Primo/ Dummy
personnalisé:
Soutenue
Couleur:
Noir
Matériel:
Monocristal de SiC
Le type:
4H-P / 6H-P
Taille:
4 pouces
Grade:
Primo/ Dummy
personnalisé:
Soutenue
Couleur:
Noir
6H-P Carbure de silicium SiC Substrate 6 pouces SIC Wafer 4H-P Pour les appareils optoélectroniques

Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'écoulement, comprenant les éléments suivants:8 pouces de SiC, 12 pouces SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, type HPSI


À propos du substrat SiC de type P

- supporter les personnalisés avec des illustrations de design

- un cristal hexagonal (4H SiC), fabriqué à partir de monocristal SiC

- haute dureté, dureté de Mohs atteint 9.2, juste derrière le diamant.

- une excellente conductivité thermique, adaptée aux environnements à haute température.

- des caractéristiques de large bande passante, adaptées aux appareils électroniques à haute fréquence et à haute puissance.


Description du substrat SiC de type P

Le 6H-P SiC (carbure de silicium polycristallin hexagonal) est un matériau semi-conducteur important, largement utilisé à haute température,appareils électroniques à haute fréquence et à haute puissance en raison de son excellente stabilité thermique et de ses propriétés électriquesSa structure cristalline hexagonale unique permet au 6H-P SiC de maintenir une bonne conductivité et une résistance mécanique dans des conditions extrêmes.une tension de rupture élevée et une excellente conductivité thermique, il présente donc un grand potentiel d'application dans les appareils électroniques de puissance, les cellules solaires et les LED.

Comparé au SiC de type N, le SiC 6H-P présente des différences évidentes de type de dopage et de mécanisme de conductivité.Le SiC de type N augmente sa conductivité en ajoutant des donneurs d'électrons (tels que l'azote ou le phosphore) pour augmenter la concentration du porteurEn revanche, le type de porteur et la concentration de 6H-P SiC dépendent de la sélection et de la distribution de ses éléments dopants.ce qui lui permet de bien fonctionner dans les applications à haute fréquence, tandis que le 6H-P SiC peut maintenir sa stabilité dans des environnements à haute température et à haute puissance en raison de ses caractéristiques structurelles,le rendant adapté à des applications telles que l'électronique de puissance et les capteurs à haute température.

Le procédé de production du 6H-P SiC est relativement mature, et il est principalement préparé par dépôt chimique de vapeur (CVD) et croissance de fusion.En raison de son excellente résistance mécanique et de sa résistance à la corrosion, le 6H-P SiC est considéré comme un choix idéal pour remplacer les matériaux traditionnels en silicium, en particulier pour les applications dans des environnements difficiles.

Avec la demande croissante de dispositifs à haut rendement, la recherche et le développement du 6H-P SiC progressent constamment, et il devrait jouer un rôle plus important dans les véhicules à énergie nouvelle, les réseaux intelligents,Les deux ont leurs propres avantages, et le choix doit être considéré de manière globale en fonction des exigences spécifiques de l'application.


Détails du substrat SiC de type P

Propriété

4H-SiC de type P, cristal unique 6H-SiC de type P, cristal unique
Paramètres de la grille a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

c=15,084 Å

Séquence d'empilement Le code ABC Le code de l'équipe
Dureté de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densité 3.23 g/cm3 30,0 g/cm3
Coefficient de dilatation thermique 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Indice de réfraction @750 nm n = 2,621 né = 2.671 ne = 2,612 ne = 2.651
Constante diélectrique c~9.66 c~9.66

Conductivité thermique

3 à 5 W/cm·K@298K

3 à 5 W/cm·K@298K

Le band-gap 3.26 eV 30,02 eV
Champ électrique de rupture 2 à 5 × 106 V/cm 2 à 5 × 106 V/cm

Vitesse de dérive de saturation

2.0 × 105 m/s 2.0 × 105 m/s


Échantillons de substrat SiC de type P

6H-P Carbure de silicium SiC Substrate 6 pouces SIC Wafer 4H-P Pour les appareils optoélectroniques 06H-P Carbure de silicium SiC Substrate 6 pouces SIC Wafer 4H-P Pour les appareils optoélectroniques 1

6H-P Carbure de silicium SiC Substrate 6 pouces SIC Wafer 4H-P Pour les appareils optoélectroniques 2


À propos de nous
Notre entreprise, ZMSH, est spécialisée dans la recherche, la production, le traitement et la vente de substrats semi-conducteurs et de matériaux cristallins optiques.
Nous avons une équipe d'ingénieurs expérimentés, une expertise en gestion, des équipements de traitement de précision et des instruments de test,nous fournissant des capacités extrêmement fortes dans le traitement de produits non standard.
Nous pouvons rechercher, développer et concevoir divers nouveaux produits en fonction des besoins des clients.
La société adhérera au principe de "centré sur le client, basé sur la qualité" et s'efforcera de devenir une entreprise de haute technologie de premier plan dans le domaine des matériaux optoélectroniques.

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Questions fréquentes

1. Q: Comparé à la N-Type, que pensez-vous de la P-Type?

R: Les substrats P-type 4H-SiC, dotés d'éléments trivalents comme l'aluminium, ont des trous comme porteurs majoritaires, offrant une bonne conductivité et stabilité à haute température.Substrats de type N, dopé avec des éléments pentavalents comme le phosphore, ont des électrons comme porteurs majoritaires, ce qui entraîne généralement une plus grande mobilité électronique et une résistivité plus faible.

2Q: Quelles sont les perspectives du marché pour le SiC de type P?
R: Les perspectives du marché du SiC de type P sont très positives, en raison de la demande croissante d'électronique de puissance haute performance dans les véhicules électriques, les systèmes d'énergie renouvelable,et des applications industrielles avancées.

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