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Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance

Détails de produit

Lieu d'origine: La Chine

Nom de marque: ZMSH

Certification: rohs

Numéro de modèle: SiC 4H-P

Conditions de paiement et d'expédition

Prix: by case

Conditions de paiement: T/T

Capacité d'approvisionnement: 1000pc/month

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Mettre en évidence:

0° Sic plaquettes de carbure de silicium

Polytype:
4H-P
Densité:
3,23 G/cm3
Dureté de Mohs:
≈9.2
Orientation extérieure:
Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour le 4H-P
Emballage:
Emballage aseptique indépendant unique, niveau de propreté 100
Application du projet:
Puce LED, communication par satellite
Polytype:
4H-P
Densité:
3,23 G/cm3
Dureté de Mohs:
≈9.2
Orientation extérieure:
Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour le 4H-P
Emballage:
Emballage aseptique indépendant unique, niveau de propreté 100
Application du projet:
Puce LED, communication par satellite
Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance

Description du produit:Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance 0

 

Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance

 

 
Le substrat de carbure de silicium de type 4H-P est un matériau semi-conducteur avec une structure en treillis hexagonale,et la conductivité de type P est obtenue par un procédé de dopage spécifique (comme le dopage de l'aluminium et d'autres éléments)Ces substrats ont généralement des concentrations élevées de dopage et une faible résistivité, ce qui les rend idéales pour la fabrication de dispositifs de haute puissance.Un axe de 0° fait généralement référence au fait qu'une direction cristalline particulière ou un bord de positionnement du substrat a un angle de 0° par rapport à une direction de référence (comme le plan du substrat), ce qui contribue à assurer la cohérence et la fiabilité du dispositif dans les processus de fabrication ultérieurs.
 
 
 


Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance 1

Caractéristiques:

 

  • Distance de large bande:Le carbure de silicium de type 4H-P a un écart de bande large d'environ 3,26 eV, ce qui lui permet de fonctionner de manière stable dans des environnements à haute température et haute tension.

 

  • Conductivité thermique élevée:Avec une conductivité thermique d'environ 4,9 W/m·K, beaucoup plus élevée que les matériaux en silicium, il peut diriger et dissiper efficacement la chaleur, adapté aux applications à haute densité de puissance.

 

  • Faible résistance:Le carbure de silicium dopé de type P a une faible résistivité, adaptée à la construction de jonctions PN, afin de répondre aux besoins des dispositifs de haute puissance.

 

  • Dureté élevée et résistance mécanique:Les matériaux en carbure de silicium présentent une résistance mécanique et une ténacité très élevées pour des applications dans des conditions difficiles.

 

  • Voltage de rupture élevé:Capable de résister à des tensions plus élevées, ce qui contribue à réduire la taille du dispositif et à améliorer l'efficacité énergétique.

 

 


 

Paramètre technique

 

Propriété

4H-SiC de type P, cristal unique

Paramètres de la grille

a=3,082 Å c=10,092 Å

Séquence d'empilement

Le code ABC

Dureté de Mohs

≈9.2

Densité

3.23 g/cm3

Coefficient de dilatation thermique

4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)

Indice de réfraction @750 nm

n = 2,621 né = 2.671

Constante diélectrique

c~9.66

Conductivité thermique

3 à 5 W/cm·K@298K

Le band-gap

3.26 eV

Champ électrique de rupture

2 à 5 × 106 V/cm

Vitesse de dérive de saturation

2.0 × 105 m/s

Orientation de la gaufre

Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour 4H/6H-P

 
 


Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance 2

Applications:

  • électronique de puissance:Le substrat de carbure de silicium de type 4H-P peut être utilisé pour fabriquer toutes sortes de dispositifs haute tension, tels que IGBT, MOSFET, etc. Ces dispositifs sont largement utilisés dans la transmission d'énergie en courant continu,convertisseur de fréquence, l'alimentation électrique industrielle et d'autres domaines, notamment dans les véhicules électriques et les technologies d'énergie renouvelable,Les dispositifs au carbure de silicium peuvent améliorer considérablement l'efficacité de la conversion de l'énergie et réduire la consommation d'énergie.

 

  • champ d'éclairage des semi-conducteurs:Il peut être utilisé pour fabriquer des puces LED à haut rendement et fiabilité, largement utilisées dans le rétroéclairage d'affichage à cristaux liquides, l'éclairage de paysage, les lumières automobiles et d'autres domaines.La haute conductivité thermique du substrat de carbure de silicium contribue à améliorer l'efficacité lumineuse et la stabilité des LED.

 

  • Le champ de détection:peuvent être utilisés pour fabriquer des capteurs de haute sensibilité et de haute stabilité, tels que des capteurs de pression, des capteurs de température, etc. Ces capteurs ont des applications importantes dans l'électronique automobile,équipement médicalLa stabilité à haute température et l'inertie chimique des substrats SIC en font un matériau idéal pour la fabrication de capteurs hautement fiables.

 

  • champ de radiofréquence des micro-ondes:Bien que le substrat N du carbure de silicium soit largement utilisé dans ce domaine,le substrat de carbure de silicium de type 4H-P peut également être utilisé par des procédés spécifiques pour la fabrication de dispositifs électroniques à haute fréquence et à haute puissanceCes appareils ont des applications potentielles dans les communications sans fil, les communications par satellite, le radar et d'autres domaines.

 

 


Wafer en carbure de silicium de type 4H-P sur axe 0°Utilisé pour la fabrication de dispositifs de haute puissance 3

Personnalisation:

 


 


ZMSH fournit une gamme complète de services 4H-P (axe 0°) de substrat de carbure de silicium, y compris un traitement personnalisé de précision pour répondre aux besoins spécifiques du client,l'utilisation de canaux logistiques professionnels pour assurer la sécurité des produits et la livraison à temps, et l'utilisation de matériaux d'emballage à l'épreuve des chocs et à l'épreuve de l'humidité, soigneusement emballés et livrés pour assurer une livraison de substrat de carbure de silicium de haute qualité.
 

 

 

 

 


 

FAQ:

 


1. Q: Quelle est la différence entre le substrat de carbure de silicium de type 4H-P et de type 6H?


R:Par rapport au 6H, le substrat SIC 4H-P a une mobilité électronique plus élevée et une meilleure conductivité thermique, ce qui lui permet de fabriquer des dispositifs de haute puissance.
 


2. Q:Quel est l'effet de l'axe 0° sur les performances du substrat de carbure de silicium?


R:Le réglage de l'arbre à 0° permet d'assurer la cohérence et la fiabilité du dispositif dans le processus de fabrication ultérieur,amélioration des performances électriques et de la stabilité du dispositif.
 
 

 


 
Tag: #Sic wafer, #substrate de carbure de silicium, type #4H-P, #axe 0°, #haute pureté, #Sic type 4H-P
 

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