Détails de produit
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: ZMSH
Certification: rohs
Numéro de modèle: SiC 4H-P
Conditions de paiement et d'expédition
Prix: by case
Conditions de paiement: T/T
Capacité d'approvisionnement: 1000pc/month
Polytype: |
4H-P |
Densité: |
3,23 G/cm3 |
Dureté de Mohs: |
≈9.2 |
Orientation extérieure: |
Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour le 4H-P |
Emballage: |
Emballage aseptique indépendant unique, niveau de propreté 100 |
Application du projet: |
Puce LED, communication par satellite |
Polytype: |
4H-P |
Densité: |
3,23 G/cm3 |
Dureté de Mohs: |
≈9.2 |
Orientation extérieure: |
Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour le 4H-P |
Emballage: |
Emballage aseptique indépendant unique, niveau de propreté 100 |
Application du projet: |
Puce LED, communication par satellite |
Le substrat de carbure de silicium de type 4H-P est un matériau semi-conducteur avec une structure en treillis hexagonale,et la conductivité de type P est obtenue par un procédé de dopage spécifique (comme le dopage de l'aluminium et d'autres éléments)Ces substrats ont généralement des concentrations élevées de dopage et une faible résistivité, ce qui les rend idéales pour la fabrication de dispositifs de haute puissance.Un axe de 0° fait généralement référence au fait qu'une direction cristalline particulière ou un bord de positionnement du substrat a un angle de 0° par rapport à une direction de référence (comme le plan du substrat), ce qui contribue à assurer la cohérence et la fiabilité du dispositif dans les processus de fabrication ultérieurs.
Propriété |
4H-SiC de type P, cristal unique |
Paramètres de la grille |
a=3,082 Å c=10,092 Å |
Séquence d'empilement |
Le code ABC |
Dureté de Mohs |
≈9.2 |
Densité |
3.23 g/cm3 |
Coefficient de dilatation thermique |
4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) |
Indice de réfraction @750 nm |
n = 2,621 né = 2.671 |
Constante diélectrique |
c~9.66 |
Conductivité thermique |
3 à 5 W/cm·K@298K |
Le band-gap |
3.26 eV |
Champ électrique de rupture |
2 à 5 × 106 V/cm |
Vitesse de dérive de saturation |
2.0 × 105 m/s |
Orientation de la gaufre |
Sur l'axe: [1120] ± 0,5° pour 4H/6H-P |
ZMSH fournit une gamme complète de services 4H-P (axe 0°) de substrat de carbure de silicium, y compris un traitement personnalisé de précision pour répondre aux besoins spécifiques du client,l'utilisation de canaux logistiques professionnels pour assurer la sécurité des produits et la livraison à temps, et l'utilisation de matériaux d'emballage à l'épreuve des chocs et à l'épreuve de l'humidité, soigneusement emballés et livrés pour assurer une livraison de substrat de carbure de silicium de haute qualité.
1. Q: Quelle est la différence entre le substrat de carbure de silicium de type 4H-P et de type 6H?
R:Par rapport au 6H, le substrat SIC 4H-P a une mobilité électronique plus élevée et une meilleure conductivité thermique, ce qui lui permet de fabriquer des dispositifs de haute puissance.
2. Q:Quel est l'effet de l'axe 0° sur les performances du substrat de carbure de silicium?
R:Le réglage de l'arbre à 0° permet d'assurer la cohérence et la fiabilité du dispositif dans le processus de fabrication ultérieur,amélioration des performances électriques et de la stabilité du dispositif.
Tag: #Sic wafer, #substrate de carbure de silicium, type #4H-P, #axe 0°, #haute pureté, #Sic type 4H-P