Plaque d'appui SiC résistante aux températures élevées/plaque de support pour support de plaques

Plaque d'appui SiC résistante aux températures élevées/plaque de support pour support de plaques

Les plaques de support en carbure de silicium (SiC) sont des composants céramiques de haute performance largement utilisés dans les secteurs de fabrication avancés tels que les semi-conducteurs, les LED et les photovoltaïques.Réputés pour leur résistance thermique exceptionnelleLa ZMSH fournit des solutions personnalisées de plaques de support SiC, y compris la conception, la fabrication, les essais, la fabrication et la fabrication.,et le soutien après-vente, assurant une meilleure stabilité des processus et une plus grande efficacité de la production.

Spécification technique:

Plaque d'appui SiC / Plaque de support Caractéristiques clés

Je suis désolée.

1.Résistance aux températures élevées- fonctionnement stable au-dessus de 1600°C, adapté à des conditions de processus extrêmes.

2.Conductivité thermique supérieure- Surpasse les matériaux traditionnels (par exemple, le graphite, l'alumine) pour une dissipation rapide de la chaleur et une réduction du stress thermique.

3.Faible expansion thermique- Excellente stabilité dimensionnelle à haute température, minimisant la déformation.

4.Haute dureté et résistance à l'usureDureté de Mohs de 9.2, assurant une durabilité à long terme.

5.Inerté chimiqueRésistant aux acides, aux alcalis et aux environnements corrosifs (par exemple, gravure, CVD/PVD).

6.Haute puretéLa composition est exempte de métaux et répond aux normes strictes de l'industrie des semi-conducteurs.

Principales applications dePlaque d'appui SiC / Plaque de support

Je suis désolée.1Compatibilité des procédés

· Fabrication de semi-conducteursCompatible avec la CVD, la MOCVD et la croissance épitaxiale, assurant un chauffage uniforme des plaquettes.

· Production de LEDIl soutient les substrats de saphir pour une croissance cohérente de la couche épitaxienne.

· Les photovoltaïquesUtilisé dans le frittage à haute température et le dépôt de films minces.

· Machinerie de précisionIl convient à la découpe au laser, à la gravure au plasma et à d'autres procédés de haute précision.

2. Types de matériaux

· SiC lié par réaction (RBSiC)Il est rentable et idéal pour une utilisation générale à haute température.

· Dépôt chimique de vapeur SiC (CVD-SiC)¢ Ultra haute pureté pour les procédés de semi-conducteurs avancés.

· SiC pressé à chaud (HPSiC)¢ Haute densité et résistance pour les applications lourdes.

3Applications de base

· Support de plaque/sous-stratIl assure une répartition thermique uniforme pendant le traitement.

· Remplacement du graphiteÉlimine les risques d'oxydation et de contamination par les particules.

· Équipement de gravureIl fournit un support stable de l' environnement plasmatique.

Services ZMSH

1. Conception personnalisée Optimisation des dimensions, de la géométrie et des traitements de surface (p. ex. polissage, revêtements).

2. Fabrication de précision

3- Tests rigoureux - Inspection par ultrasons, cycle thermique et protocoles d'assurance qualité.

4- Réponse rapide: consultation technique, prototypage et soutien à la production par lots.

5. Assistance mondiale couverture mondiale (Asie-Pacifique, Europe, Amériques) avec service après-vente 24 heures sur 24 et 7 jours sur 7.