| Nom De Marque: | zmsh |
| Numéro De Modèle: | 12'' Dia 250mm±0.5mm Épaisseur 1000 Um |
| MOQ: | 3 |
| Prix: | 80 |
| Délai De Livraison: | 5-6 semaines |
| Conditions De Paiement: | T/T, Western Union |
Wafer de saphir de 12 pouces de diamètre 250 mm (± 0,5 mm) épaisseur 1000 μm plan C
C' est ça.Wafer en saphir de 250 mmIl offre une précision de pointe (± 0,5 mm de diamètre, épaisseur de 1 000 μm) et une pureté ultra-haute (99,99%), optimisé pour les applications avancées en semi-conducteurs et optoélectroniques.Orientation du plan C (0001)assure une qualité de croissance épitaxielle exceptionnelle pour les dispositifs à base de GaN, tandis que son grand diamètre maximise l'efficacité de production pour la fabrication en grande quantité.Points de fusion à 000°C), transparence optique (85%+ de UV à infrarouge moyen) et robustesse mécanique (9 dureté Mohs), cette plaque est idéale pour l'électronique de puissance, les LED, les systèmes laser et les technologies quantiques de pointe.
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Caractéristiques essentielles de la gaufre en saphir
La précision de la gaufre en saphir:
Diamètre: 250 mm ± 0,5 mm, compatible avec les lignes de fabrication de semi-conducteurs de 12"
Épaisseur: 1 000 μm ± 15 μm, conçu pour une résistance mécanique et une homogénéité de processus.
Des galettes de saphirUltra-haute pureté (4N):
990,99% d'Al2O pur₃, éliminant les impuretés qui dégradent les performances optiques/électriques.
Des galettes de saphirPropriétés exceptionnelles du matériau:
Stabilité thermique: point de fusion ~ 2,050°C, adapté aux environnements extrêmes.
Clarté optique: > 85% de transmission de 350 nm à 4 500 nm (UV à infrarouge moyen).
Dureté: 9 Mohs, résistant aux rayures et à la corrosion chimique.
Des galettes de saphirOptions de qualité de surface:
Polissage prêt à l'épinectomie: Ra < 0,3 nm (mesuré par AFM), idéal pour le dépôt de films minces.
Polissage à double facedisponible pour des applications optiques de précision.
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Applicationsde plaquettes de saphir
Wafer en saphirOptoélectronique avancée:
LED/diodes laser à base de GaN: LED bleues/UV, VCSEL pour le LiDAR et la détection 3D.
Écrans à micro-LED: Substrats uniformes pour les écrans AR/VR de nouvelle génération.
Wafer en saphirAppareils de puissance et RF:
Amplificateurs de puissance 5G/6G: Faible perte diélectrique à haute fréquence.
HEMT et MOSFET: Transistors haute tension pour véhicules électriques.
Wafer en saphirIndustrie et défense:
Fenêtres IR/Domes de missiles: Transparence dans les environnements difficiles (par exemple, dans l'aérospatiale).
Capteurs en saphir: couvertures résistantes à la corrosion pour la surveillance industrielle.
Wafer en saphirLes technologies émergentes:
Technologie portable: verre de couverture ultra-durable pour les montres intelligentes.
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Les spécifications
|
Paramètre |
Valeur |
|---|---|
| Diamètre | 250 mm ± 0,5 mm |
| Épaisseur | 1,000 μm ± 15 μm |
| Les orientations | Le niveau d'humidité doit être supérieur ou égal à: |
| La pureté | > 99,99% (4N) |
| Roughness de surface (Ra) | < 0,3 nm (prêt pour l'épidémiologie) |
| TTV | < 15 μm |
| Faites une fleur. | < 50 mm |
Équipement d'usine
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