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Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée

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Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée

Al₂O₃ Sapphire Wafer,  Off C-Axis Toward M-Plane 8°, Diameters: 2"– 8", Custom Thickness
Al₂O₃ Sapphire Wafer,  Off C-Axis Toward M-Plane 8°, Diameters: 2"– 8", Custom Thickness Al₂O₃ Sapphire Wafer,  Off C-Axis Toward M-Plane 8°, Diameters: 2"– 8", Custom Thickness Al₂O₃ Sapphire Wafer,  Off C-Axis Toward M-Plane 8°, Diameters: 2"– 8", Custom Thickness Al₂O₃ Sapphire Wafer,  Off C-Axis Toward M-Plane 8°, Diameters: 2"– 8", Custom Thickness

Image Grand :  Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: zmsh
Description de produit détaillée
Les orientations: Axe C (0001) vers A(11-20) décalé de 5° Matarial: 99.999% de cristal de saphir
TTV: <15um> Faites une fleur.: <50um>
Polissés: dsp ou ssp Diamètre: Personnalisé
Mettre en évidence:

3'' Sapphire Wafer Al2O3

,

Plaquettes de saphir Al2O3

Wafer de saphir Off-axe C vers le plan MJe suis désolée.2O₃, Diamètre 2 "/3"/4"/6"/8", épaisseur personnalisée

 

C' est ça.plaquettes en saphir de haute précisioncaractéristiques d'un 8° hors deAxe C vers l'orientation du plan Met99pureté de 0,999% (5N), optimisé pour une croissance épitaxielle supérieure dans les applications optoélectroniques et semi-conducteurs avancées.diamètres standard (2" à 8")Avec des épaisseurs personnalisables, il offre une uniformité cristallographique exceptionnelle, une densité de défaut ultra-faible et une excellente stabilité thermique/chimique.L'angle de découpe de 1° contrôlé améliore l'épitaxie du GaN et de l'AlN en réduisant les défauts de groupage par étapes, ce qui le rend idéal pour les LED hautes performances, les diodes laser, l'électronique de puissance et les appareils RF.

 


 

Caractéristiques essentielles de la gaufre en saphir

 

Précision de l'orientation hors coupure

8° au large deAxe C vers le plan M, conçus pour améliorer l'uniformité du film épitaxial et minimiser les défauts dans les dispositifs à base de GaN.

 

Ultra-haute pureté (5N Al)2O3) Les produits

990,999% de puretéavec des traces d'impuretés (Fe, Ti, Si) < 5 ppm, assurant des performances électriques et optiques optimales.

 

Démétriers:"Tolérance de 2", "3", "4", "6", "8" (tolérance de ± 0,1 mm).

Épaisseur:de 100 μm à 1 500 μm (tolérance ± 5 μm), adapté pour

Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée 0

des applications spécifiques.

 

Polissage prêt à l'épinectomie: Ra < 0,5 nm (versant avant) pour le dépôt de film mince sans défaut.

 

Stabilité thermique:Point de fusion ~ 2,050°C, adapté à

les procédés à haute température (MOCVD, MBE).

 

Transparence optique:> 85% de transmission (UV à infrarouge moyen: 250 nm ∼ 5 000 nm).

 

Robustesse mécanique: 9 Dureté de Mohs, résistant à l'écorce chimique et à l'abrasion.

 

 

 

 


 

 

Applications de la gaufre en saphir

 

Optoélectronique

LED/diodes laser à base de GaN: LED bleues/UV, micro-LED et VCSEL.

Fenêtres laser à haute puissance: CO2 et composants laser excimères.

 

Électronique de puissance et RF

Transistors à haute mobilité électronique (HEMT): amplificateurs de puissance 5G/6G et systèmes radar.

Diodes Schottky et MOSFET: Dispositifs haute tension pour véhicules électriques.

 

Industrie et défense

fenêtres IR et dômes de missiles: Haute transparence dans des environnements difficiles.

Capteurs à saphir: couvertures résistantes à la corrosion pour la surveillance industrielle.

 

Les technologies quantiques et de recherche

Substrats pour les qubits supraconducteurs(informatique quantique).

Cristaux SPDC (conversion spontanée paramétrique vers le bas)pour l'optique quantique.

 

Semi-conducteurs et MEMS

autres produits de fabrication à base de siliciumpour les circuits intégrés avancés.

Capteurs de pression MEMSnécessitant une inerté chimique.

 

 

Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée 1Al2O3 Wafer de saphir, hors axe C vers M-plan 8°, diamètres: 2" ′′ 8", épaisseur personnalisée 2

 


 

Les spécifications

 

Paramètre

Valeur

Diamètre 2", 3", 4", 6", 8" (± 0,1 mm)
Épaisseur Pour une utilisation personnalisée (100 ‰ 1500 μm ± 5 μm)
Les orientations sur l'axe C vers le plan M 8°
La pureté 990,999% (5N Al2O3)
Roughness de surface (Ra) < 0,5 nm (prêt pour l'épidémiologie)
Densité de dislocation < 500 cm2
TTV (variation totale de l'épaisseur) < 10 μm
Arche/courbe < 15 μm
Transparence optique 250 ‰ 5000 nm (> 85%)

 


 

Questions et réponses

 

Le premier trimestre: Puis-je demander un angle de découpe différent (par exemple 0,5° ou 2°)?
R2: Je ne sais pas. - Je suis désolé.Des angles de découpe personnalisés sont disponibles avec une tolérance de ± 0,1°.

 

Q2: Quelle est l'épaisseur maximale disponible?
A6: le nombre de pointsJusqu'à1,500 μm (1,5 mm)pour la stabilité mécanique dans les applications à haute contrainte.

 

Q3: Comment les galettes doivent-elles être stockées pour éviter la contamination?
A10: Les données de référenceConserver danscassettes conformes aux normes de la salle blancheou des armoires d'azote (20°C à 25°C, humidité < 40%).

 

Coordonnées
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Personne à contacter: Mr. Wang

Téléphone: +8615801942596

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