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Système de séparation laser de substrats SiC de 6 pouces à 12 pouces pour plaquettes personnalisées

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Système de séparation laser de substrats SiC de 6 pouces à 12 pouces pour plaquettes personnalisées

6inch-12inch SiC Substrate Laser Separation System Machine Wafers Customized

Image Grand :  Système de séparation laser de substrats SiC de 6 pouces à 12 pouces pour plaquettes personnalisées

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: ZMSH
Certification: rohs
Numéro de modèle: Machine à système de séparation laser
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 5
Prix: by case
Délai de livraison: 3-6 mois
Conditions de paiement: T/T
Capacité d'approvisionnement: 1000 pièces par mois
Description de produit détaillée
​Laser Type​​: Excimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) ​​Processing Area​​: Max 150mm × 150mm
Processing Speed​​: 50–300mm/s ​​Lift-Off Thickness​​: 10nm–20μm
System Integration​​: EFU clean unit, exhaust gas treatment system Application: ​​Semiconductor Manufacturing,​​​​Flexible Electronics​​
Mettre en évidence:

Machine de séparation laser de substrats SiC

,

Machine de séparation laser de substrats SiC personnalisée

 

Machine à séparation par laservue d'ensemble du systèmeJe suis désolée.

 
 

Système de séparation laser de substrats SiC de 6 pouces à 12 pouces pour plaquettes personnalisées 0

Système de séparation laser de substrat SiC de 6 à 12 pouces

 
 
 

Le système de levage laser (LLO) est une technologie de traitement de précision avancée qui utilise des lasers pulsés à haute énergie pour obtenir une séparation sélective des matériaux aux interfaces.Cette technologie est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteursLes principaux avantages de cette technologie sont le traitement sans contact, le contrôle haute résolution et la compatibilité multi-matériaux.ce qui le rend indispensable pour des applications telles que le transfert de masse MicroLED, la fabrication d'affichage flexible et l'emballage au niveau des plaquettes semi-conducteurs.

 

 

Les services de l' entreprise:

 

Solutions personnalisées: longueur d'onde laser adaptée (193 nm ∼1064 nm), puissance (1W ∼100 W) et intégration d'automatisation pour soutenir la R&D et la production de masse.

Développement de processus: optimisation des paramètres laser, conception de la forme du faisceau et services de validation (par exemple, LLO au laser UV pour les substrats de saphir).

Maintenance intelligente: surveillance à distance intégrée et diagnostic de défaut, assurant un soutien opérationnel 24 heures sur 24 et 7 jours sur 7, avec un temps de réponse de < 2 heures.

 

 


 

Machine à séparation par laserde tParamètres techniques

 

 

Paramètre Les valeurs typiques - Des notes.
Type de laser Excimère (193nm/248nm), Femtoseconde (343nm/1030nm) Largeur d'impulsion 5 ̊20ns, puissance de pointe > 10 kW
Zone de traitement Le nombre maximal de points de contact est de: Traitement parallèle à plusieurs stations
Vitesse de traitement 50 ∼ 300 mm/s Réglable par matériau et puissance laser
Épaisseur de levage 10 nm ≈ 20 μm Capacité de délamination couche par couche
Intégration des systèmes Unité de nettoyage de l'EFU, système de traitement des gaz d'échappement Conformité à la norme ISO 14644 en matière de propreté

 

 


 

Machine à séparation par laserdu principe de fonctionnement

Système de séparation laser de substrats SiC de 6 pouces à 12 pouces pour plaquettes personnalisées 1

 

L'OLA fonctionne par ablation sélective aux interfaces du matériau:

 

Irradiation laser: des impulsions à haute énergie (par exemple, les lasers excimères ou femtosecondes) se concentrent sur l'interface cible (par exemple, le saphir-GaN), induisant des réactions photothermiques/photochimiques.

Décomposition de l'interface: l'énergie laser déclenche une gazéification (par exemple, GaN → Ga + N2), générant du plasma et des contraintes thermiques pour une délamination contrôlée.

Collecte des matériaux: les microstructures délaminées sont capturées par aspiration sous vide ou par dynamique des fluides, ce qui assure un transfert sans contamination.

 

 

Les technologies clés:

 

  • Les lasers ultra-rapides: les impulsions de cinq secondes (< 100 f) minimisent les dommages thermiques (par exemple, la séparation des micro-LED).
  • Formation du faisceau: les profils de faisceau linéaires/rectangulaires améliorent l'efficacité (p. ex. traitement flexible des lots de PCB).

 

 


 

Caractéristiques du système

 

Je suis désolée.Une caractéristique. Spécifications techniques Applications
Traitement sans contact Énergie laser transmise par optique, évitant les contraintes mécaniques sur les matériaux fragiles OLED souple, MEMS
Une grande précision. Précision de positionnement ±0,02 mm, contrôle de la densité d'énergie ±1% Transfert de micro-LED, modélisation sous-μm
Compatibilité entre plusieurs matériaux Prend en charge les lasers UV (CO2), visibles (vert) et IR; compatible avec les métaux, la céramique, les polymères Produits de synthèse
Le contrôle intelligent. Visions mécaniques intégrées, optimisation des paramètres basée sur l'IA, chargement/déchargement automatisé Amélioration de l'efficacité de la production de plus de 30%

 

 


Je suis désolée.

Machine à séparation par laserdechamps d'application

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1. fabrication de semi-conducteurs

 

  • Emballage au niveau de la gaufre: Débonding laser pour la séparation des copeaux sur la gaufre, améliorant le rendement.

Je suis désolée.

  • MicroLED/microdisplay: transfert de masse de LED à l'échelle μm vers des substrats en verre ou en PET.

 

 

2. électronique flexible

 

  • Displays pliables: délamination de circuits souples à partir de substrats en verre (par exemple, Samsung Galaxy Fold).

Je suis désolée.

  • Fabrication de capteurs: décapage de précision de céramiques piézoélectriques pour capteurs tactiles.

 

 

3. Produits médicaux

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  • Traitement par cathéter: décapage au laser des couches d'isolation pour les conduites biocompatibles.

Je suis désolée.

  • Fabrication d'implants: retrait du revêtement en alliage de titane pour les implants orthopédiques.

 

 

4Les énergies renouvelables

 

  • Cellules solaires de pérovskite: décapage d'électrodes conductrices transparentes pour optimiser l'efficacité.

Je suis désolée.

  • Modules photovoltaïques: scribing laser pour réduire les déchets de plaquettes de silicium de 20%.
 

 


 

Système de séparation laser de la machine FAQ

 

 

1Q: Qu'est-ce qu'un système de décollage laser?

R: Un système de levage laser est un outil de traitement de précision qui utilise des lasers pulsés à haute énergie pour séparer sélectivement les matériaux aux interfaces.Il s'agit d'un outil qui permet des applications telles que le transfert de masse MicroLED et la fabrication d'électronique flexible..

 

 

2. Q: Quelles industries utilisent les systèmes de LLO?

R: Les systèmes LLO sont essentiels dans la fabrication de semi-conducteurs (emballage au niveau des plaquettes), de produits électroniques flexibles (écrans pliables), de dispositifs médicaux (fabrication de capteurs),et les énergies renouvelables (cellules solaires), offrant un traitement sans contact et haute résolution.

 

 

 

Tags: #6-12 pouces, #1064nm, #SiC Substrate Laser Separation System Machine, #Wafers personnalisé

 

 

 

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Téléphone: +8615801942596

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