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Détails des produits

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Sic substrat
Created with Pixso. Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium

Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium

Nom De Marque: ZMSH
Numéro De Modèle: SICOI Wafers
MOQ: 25
Prix: by case
Délai De Livraison: 2-4weeks
Conditions De Paiement: T/T
Informations détaillées
Place of Origin:
CHINA
Certification:
rohs
Taille:
4inch / 6inch / 8 pouces
Rugosité de la surface:
RA <0,5 nm
Résistance à la rupture:
3,5 MPa · M¹ / ²
CTE (4H-SIC):
4,2 × 10⁻⁶ / k
Résistivité (Si):
> 1 × 10⁶ ω · cm
Applications:
Électronique haute puissance, dispositifs RF
Packaging Details:
package in 100-grade cleaning room
Mettre en évidence:

Wafer 4H-SiC sur isolant

,

Wafer SICOI de 100 à 150 mm

,

Une couche de SiC sur un substrat de silicium

Description de produit

Aperçu des plaquettes SICOI




Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant 100 à 150 mm film sic SUR silicium



Les plaquettes SICOI (Carbure de Silicium sur Isolant) représentent un matériau de substrat semi-conducteur haute performance qui combine les propriétés physiques exceptionnelles du carbure de silicium (SiC) avec les avantages d'isolation électrique d'une couche isolante (telle que SiO₂ ou Si₃N₄). La structure SICOI se compose généralement d'une couche monocristalline de SiC, d'une couche isolante et d'un substrat de support (par exemple, Si ou SiC). Cette configuration trouve des applications étendues dans les dispositifs électroniques de haute puissance, haute fréquence et haute température, ainsi que dans les domaines des capteurs RF (Radio Fréquence) et MEMS.

Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium



Comparées aux plaquettes SiC conventionnelles, les plaquettes SICOI réduisent considérablement la capacité parasite et le courant de fuite grâce à l'incorporation d'une couche isolante, améliorant ainsi la fréquence de fonctionnement des dispositifs et l'efficacité énergétique. Cette technologie est particulièrement adaptée aux applications nécessitant une haute résistance à la tension, de faibles pertes et des performances thermiques supérieures, telles que les véhicules électriques, les communications 5G et l'électronique aérospatiale.

Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium





Caractéristiques clés des plaquettes SICOI



Catégorie de caractéristique

Paramètres spécifiques/Performance

Avantages techniques

Structure matérielle


Couche monocristalline de SiC (4H/6H-SiC) + couche isolante (SiO₂/Si₃N₄) + substrat de support (Si/SiC)


Permet l'isolation électrique et réduit les effets parasites


Performance électrique


Haute rigidité diélectrique (>3 MV/cm), faible perte diélectrique


Idéal pour les dispositifs haute fréquence et haute tension


Performance thermique


Haute conductivité thermique (4,9 W/cm·K), résistance aux hautes températures (>500°C)


Excellente capacité de dissipation thermique, adapté aux environnements à haute température


Performance mécanique


Dureté élevée (dureté Mohs 9,5), faible coefficient de dilatation thermique


Résiste aux contraintes mécaniques et améliore la fiabilité des dispositifs


Qualité de surface


Surface atomiquement plane (Ra <0,2 nm)Optimise la qualité de la croissance épitaxiale et minimise les défauts


Performance d'isolation


Haute résistance d'isolement (>10¹⁴ Ω·cm), faible courant de fuite


Adapté aux dispositifs RF et de puissance nécessitant une isolation élevée


Taille et personnalisation


Prend en charge les plaquettes de 4/6/8 pouces avec une épaisseur personnalisable (couche SiC : 1-100 µm, couche isolante : 0,1-10 µm)


Répond aux exigences diverses des applications


Applications principales des plaquettes SICOI






Domaine d'application



Scénarios spécifiques

Avantages clés

Électronique de puissance

Onduleurs VE, stations de recharge rapide, modules de puissance industriels


La haute résistance à la tension et les faibles pertes améliorent l'efficacité énergétique

Dispositifs RF

Amplificateurs de puissance (PA) de stations de base 5G, frontaux RF millimétriques


La faible capacité parasite permet un fonctionnement à haute fréquence avec une perte minimale

Capteurs MEMS

Capteurs de pression haute température, dispositifs de navigation inertielle


Résiste aux hautes températures et aux radiations, adapté aux environnements difficiles

Aérospatiale

Systèmes d'alimentation d'avions, équipements de communication par satellite


Haute fiabilité et résistance aux températures extrêmes

Réseau intelligent

Transmission à courant continu haute tension (HVDC), disjoncteurs à semi-conducteurs


Les propriétés d'isolation élevées réduisent les pertes d'énergie

Optoélectronique

LED UV, substrats de diodes laser


Une bonne adaptation du réseau améliore les performances des dispositifs

Le processus de préparation du 4H-SiCOI





Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium

Le processus de fabrication du 4H-SiCOI et les microrésonateurs avec des caractéristiques mises en évidence.



a Processus de fabrication de la plateforme matérielle 4H-SiCOI vierge.


  • b Photographie d'un substrat 4H-SiCOI à l'échelle de la plaquette de 4 pouces fabriqué par la méthode de collage et d'amincissement, la zone de défaillance est marquée.
  • c Variation d'épaisseur totale du substrat 4H-SiCOI.
  • d Image d'une puce 4H-SiCOI.
  • e Organigramme de la fabrication d'un microrésonateur SiC.
  • f Un microscope électronique à balayage (MEB) du microrésonateur fabriqué.
  • g Image MEB zoomée de la paroi latérale du résonateur. Encadré, le balayage par microscopie à force atomique (AFM) de la surface supérieure du résonateur (Échelle = 1 µm).
  • h Image MEB de profil du résonateur fabriqué avec une surface supérieure de forme parabolique.
  • Plaquettes SICOI 




Plaquette SICOI 4 pouces 6 pouces 8 pouces 4H-SiC sur isolant film de SiC de 100 à 150 mm SUR silicium





Q&R​1. Q : Qu'est-ce qu'une plaquette SICOI ?



    R : Une plaquette SICOI (Carbure de Silicium sur Isolant) est un substrat semi-conducteur avancé combinant les propriétés haute performance du SiC avec une couche isolante pour une isolation électrique améliorée dans les dispositifs de puissance et RF.
2. Q : Quels sont les avantages des plaquettes SICOI ?



    R : Les plaquettes SICOI offrent une capacité parasite plus faible, une tension de claquage plus élevée et une meilleure gestion thermique par rapport aux plaquettes SiC standard, idéales pour les applications 5G et VE.
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consistent en quelques microns de SiC au-dessus de quelques microns de SiO₂, au-dessus de Si.