| Nom De Marque: | ZMSH |
| Numéro De Modèle: | SICOI Wafers |
| MOQ: | 25 |
| Prix: | by case |
| Délai De Livraison: | 2-4weeks |
| Conditions De Paiement: | T/T |
Aperçu des plaquettes SICOI
Les plaquettes SICOI (Carbure de Silicium sur Isolant) représentent un matériau de substrat semi-conducteur haute performance qui combine les propriétés physiques exceptionnelles du carbure de silicium (SiC) avec les avantages d'isolation électrique d'une couche isolante (telle que SiO₂ ou Si₃N₄). La structure SICOI se compose généralement d'une couche monocristalline de SiC, d'une couche isolante et d'un substrat de support (par exemple, Si ou SiC). Cette configuration trouve des applications étendues dans les dispositifs électroniques de haute puissance, haute fréquence et haute température, ainsi que dans les domaines des capteurs RF (Radio Fréquence) et MEMS.
![]()
Comparées aux plaquettes SiC conventionnelles, les plaquettes SICOI réduisent considérablement la capacité parasite et le courant de fuite grâce à l'incorporation d'une couche isolante, améliorant ainsi la fréquence de fonctionnement des dispositifs et l'efficacité énergétique. Cette technologie est particulièrement adaptée aux applications nécessitant une haute résistance à la tension, de faibles pertes et des performances thermiques supérieures, telles que les véhicules électriques, les communications 5G et l'électronique aérospatiale.
![]()
|
Catégorie de caractéristique |
Paramètres spécifiques/Performance |
Avantages techniques |
|
Structure matérielle |
Couche monocristalline de SiC (4H/6H-SiC) + couche isolante (SiO₂/Si₃N₄) + substrat de support (Si/SiC) |
Permet l'isolation électrique et réduit les effets parasites |
|
Performance électrique |
Haute rigidité diélectrique (>3 MV/cm), faible perte diélectrique |
Idéal pour les dispositifs haute fréquence et haute tension |
|
Performance thermique |
Haute conductivité thermique (4,9 W/cm·K), résistance aux hautes températures (>500°C) |
Excellente capacité de dissipation thermique, adapté aux environnements à haute température |
|
Performance mécanique |
Dureté élevée (dureté Mohs 9,5), faible coefficient de dilatation thermique |
Résiste aux contraintes mécaniques et améliore la fiabilité des dispositifs |
|
Qualité de surface |
Surface atomiquement plane (Ra <0,2 nm)Optimise la qualité de la croissance épitaxiale et minimise les défauts |
Performance d'isolation |
|
Haute résistance d'isolement (>10¹⁴ Ω·cm), faible courant de fuite |
Adapté aux dispositifs RF et de puissance nécessitant une isolation élevée |
Taille et personnalisation |
|
Prend en charge les plaquettes de 4/6/8 pouces avec une épaisseur personnalisable (couche SiC : 1-100 µm, couche isolante : 0,1-10 µm) |
Répond aux exigences diverses des applications |
Applications principales des plaquettes SICOI |
|
Scénarios spécifiques |
Avantages clés |
Électronique de puissance |
|
Onduleurs VE, stations de recharge rapide, modules de puissance industriels |
La haute résistance à la tension et les faibles pertes améliorent l'efficacité énergétique |
Dispositifs RF |
|
Amplificateurs de puissance (PA) de stations de base 5G, frontaux RF millimétriques |
La faible capacité parasite permet un fonctionnement à haute fréquence avec une perte minimale |
Capteurs MEMS |
|
Capteurs de pression haute température, dispositifs de navigation inertielle |
Résiste aux hautes températures et aux radiations, adapté aux environnements difficiles |
Aérospatiale |
|
Systèmes d'alimentation d'avions, équipements de communication par satellite |
Haute fiabilité et résistance aux températures extrêmes |
Réseau intelligent |
|
Transmission à courant continu haute tension (HVDC), disjoncteurs à semi-conducteurs |
Les propriétés d'isolation élevées réduisent les pertes d'énergie |
Optoélectronique |
|
LED UV, substrats de diodes laser |
Une bonne adaptation du réseau améliore les performances des dispositifs |
Le processus de préparation du 4H-SiCOI |
![]()
a Processus de fabrication de la plateforme matérielle 4H-SiCOI vierge.
![]()
R : Une plaquette SICOI (Carbure de Silicium sur Isolant) est un substrat semi-conducteur avancé combinant les propriétés haute performance du SiC avec une couche isolante pour une isolation électrique améliorée dans les dispositifs de puissance et RF.
2. Q : Quels sont les avantages des plaquettes SICOI ?
R : Les plaquettes SICOI offrent une capacité parasite plus faible, une tension de claquage plus élevée et une meilleure gestion thermique par rapport aux plaquettes SiC standard, idéales pour les applications 5G et VE.
Tag : #4pouces 6pouces 8pouces, #Personnalisé, #Plaquettes 4H-SiCOI, #Substrats composites SiC sur Isolant, #SiC, #SiO2, #Si,#Plaquette SICOI 4H-SiC sur isolant, #100 à 150 mm, #film sic SUR silicium, #C
consistent en quelques microns de SiC au-dessus de quelques microns de SiO₂, au-dessus de Si.