Substrats en saphir monocristallin 2", 3", 4" et 6" pour applications LED, optiques et semi-conducteurs

Substrats en saphir monocristallin (2", 3", 4" et 6") pour les applications LED, optiques et semiconducteurs

Aperçu du produit

ZMSH propose des substrats en saphir monocristallin de haute qualité disponibles en diamètres de 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces et 6 pouces, fabriqués à partir de Al₂O₃ (oxyde d'aluminium) pur à 99,99 % en utilisant une technologie avancée de croissance cristalline et de polissage.
Ces plaquettes de saphir présentent une dureté, une stabilité chimique, une conductivité thermique et une transparence optique supérieures, ce qui en fait le matériau préféré pour les LED, l'épitaxie GaN, les fenêtres optiques, les couches minces de semiconducteurs et les dispositifs microélectroniques.

Les substrats en saphir ZMSH sont disponibles en versions polies simple face (SSP) et polies double face (DSP), avec une rugosité de surface aussi faible que Ra ≤ 0,3 nm et une variation d'épaisseur totale (TTV) inférieure à 3 µm. Chaque plaquette est coupée avec précision selon l'orientation plan A, plan C, plan M ou plan R selon les exigences du client, assurant une adaptation optimale du réseau pour une croissance épitaxiale à haut rendement et des performances supérieures des dispositifs.

Principales caractéristiques

• Matériau de haute pureté :>99,99 % de Al₂O₃ monocristallin avec peu de défauts et d'impuretés.

• Excellente qualité de surface : Rayures/trous 20/10, Ra ≤ 0,3 nm, idéal pour le dépôt épitaxial.

• Précision dimensionnelle : Tolérances serrées en diamètre et en épaisseur ; tailles personnalisables.

• Stabilité thermique et chimique : Résiste jusqu'à 2000 °C et est très résistant aux acides et aux alcalis.

• Transparence optique : Large plage de transmission de l'UV à l'IR (190 nm–5 µm).

• Options personnalisées : Disponible en tailles de 2", 3", 4", 6" et en épaisseur ou orientation personnalisée.

Applications

• LED et optoélectronique : Croissance épitaxiale GaN, AlN et InGaN pour LED et LD à haute luminosité.

• Semi-conducteurs : Dispositifs à couches minces, circuits intégrés et composants MEMS.

• Systèmes optiques : Fenêtres, lentilles et composants laser nécessitant durabilité et clarté.

• Aérospatiale et défense : Capteurs infrarouges et fenêtres optiques haute température.

• Recherche et développement : Revêtements optiques, essais d'épitaxie et études de matériaux avancés.

Spécifications techniques

FAQ

1. Qu'est-ce qu'un substrat en saphir ?
Un substrat en saphir est une plaquette monocristalline fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium (Al₂O₃), utilisée comme matériau de base pour la croissance épitaxiale dans les LED, les diodes laser et les dispositifs à semi-conducteurs.

2. Quelles sont les orientations cristallines disponibles ?
ZMSH propose des orientations plan C (0001), plan A (11-20), plan R (1-102) et plan M (10-10), en fonction de l'adaptation du réseau requise pour des matériaux spécifiques comme GaN ou AlN.

3. Quelles options de polissage proposez-vous ?
Nous proposons des substrats polis simple face (SSP) et polis double face (DSP). Chaque surface subit un rodage de précision et un polissage chimico-mécanique pour garantir des surfaces ultra-lisses et sans défaut.

4. Puis-je demander des tailles ou des épaisseurs personnalisées ?
Oui. ZMSH prend en charge la personnalisation complète du diamètre, de l'épaisseur, de l'orientation et de la forme des bords en fonction de vos dessins techniques ou des exigences de votre application.