Substrate de saphir en plan C de 2 pouces pour le développement de processus et l'étalonnage d'équipements

Vue d'ensemble du produit

Ce substrat de saphir en plan C de 2 pouces est fabriqué à partir d'oxyde d'aluminium monocristallin de haute pureté (Al2O3) à l'aide de techniques avancées de croissance des cristaux et de découpe de précision.d'une épaisseur n'excédant pas 1 mmAvec une épaisseur stable et un faible contrôle de l'arc, ce substrat est idéal pour l'étalonnage des équipements, les essais de dépôt de films minces et la R & D sur les semi-conducteurs ou les photoniques non critiques.
Chaque plaquette est soumise à une inspection dimensionnelle et visuelle stricte, et toutes les expéditions sont traçables en lots complets.

Principales caractéristiques

• Saphir de haute pureté (Al2O3):Excellente résistance mécanique, stabilité thermique et résistance chimique.

• C-Plane (0001) Orientation:Orientation standard pour le GaN, les revêtements optiques et les applications laser.

• Surface du SSP:L'avant poli assure un dépôt uniforme; l'arrière est recouvert pour une manipulation stable des luminaires.

• Pour les appareils de traitement des déchets:Maintient la planéité pour un traitement fiable.

• Grade de factice:Rentable pour les expériences de processus et le réglage des équipements.

• Contrôle de qualité strict:Le numéro de lot et le numéro de lot assurent une traçabilité totale.

Spécifications techniques

Applications

Ce substrat de saphir de qualité factice est adapté pour:

• Les essais de dépôt (ALD / PVD / CVD / MOCVD)

• Étalonnage des équipements et réglage des paramètres

• Uniformité du revêtement et évaluation du processus

• Recherche et développement sur les films minces et expériences de photonie non critique

• Formation universitaire et enseignement en laboratoire

• Épreuves optiques et démonstration fonctionnelle

Emballage et assurance qualité

• Inspection et manipulation des salles blanches de classe 100

• 25 pièces par cassette de gaufre avec séparateur de protection

• Emballages antistatiques scellés sous vide pour éviter la contamination

• Étiquettes de lots et de lots incluses pour une traçabilité complète

• Vérification des défauts visuels avant expédition

Questions fréquentes

1Quelle est la principale différence entre les substrats de saphir de qualité factice et de qualité supérieure?

Les substrats de qualité factice ont des dimensions mécaniques correctes, mais peuvent ne pas répondre aux normes d'optique, de défaut de surface ou d'épipréparation requises pour la croissance du GaN ou la fabrication du dispositif.Ils sont idéaux pour les essais de processus et l'étalonnage.

2Je peux utiliser ce substrat pour la croissance épitaxienne?

Pour la vérification générale du processus, oui.
Cependant, pourFabrication de GaN de haute qualité ou d'appareils épitaxiaux, nous vous recommandons de passer àsaphir DSP de qualité supérieure ou épi-prêtpour une meilleure planéité, TTV et contrôle des défauts de surface.

3Offrez-vous une orientation, une épaisseur ou un polissage personnalisés?

Oui, nous soutenons la personnalisation:

• Épaisseur (200 ‰ 1500 μm)

• SSP / DSP

• Plan C, plan A, plan R, plan M

• Marquage au laser, planches d'orientation, déchiquetage sur mesure
  Veuillez nous contacter pour vos spécifications.

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