Détails des produits

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Haute dureté et résistance à l'usure Excellente isolation électrique Bonne conductivité thermique

Nom De Marque:	ZMSH
Numéro De Modèle:	Substrats saphir SSP plan C de 4 pouces
MOQ:	25
Prix:	Fluctuates with market
Délai De Livraison:	4-9 semaines
Conditions De Paiement:	T/T

Informations détaillées

Description de produit

Informations détaillées

Lieu d'origine:

Chine

Orientation cristalline:

Plan C / A / R / M

Diamètre:

2/4/6 pouces

Épaisseur:

650 ± 15 um

Méthode de cristallogénèse:

KY / EFG / CZ

Surface:

Poli ou selon application

Type de polissage:

SSP / DSP

Description de produit

Informations sur les substrats de saphir

Les substrats de saphir sont des matériaux de base essentiels pour les LED et les appareils GaN.Il soutient des applications en aval valant des milliards de dollars, ayant une importance stratégique et pionnière.

En amont: Alumine de haute pureté (principalement 4N5 et supérieure), équipement de croissance des cristaux (tels que les fours Kyropoulos) et champs thermiques au tungstène-molybdène.Certaines matières premières haut de gamme et certains équipements de base dépendent encore partiellement des importations.

Midstream: croissance des cristaux de saphir → extraction du noyau → tranchage → éclaboussure → polissage → substrat de saphir à motif (PSS). Ce segment présente les obstacles techniques les plus élevés et la valeur ajoutée.

En aval: puces LED (qui représentent plus de 80% de la consommation), appareils électroniques grand public (plaques de couverture, composants de caméra), semi-conducteurs de troisième génération (appareils GaN/RF), fenêtres optiques, etc.Les applications en aval se développent des LED traditionnelles vers des domaines diversifiés.

Les substrats en saphir SSP de plan C de 4 pouces sont des plaquettes d'alumine (Al2O3) monocristalline à orientation cristalline (0001), produites principalement par les méthodes de croissance des cristaux de Kyropoulos (KY), HEM ou EFG.SSP signifie Single Side Polished: la surface avant prête à l'épinectomie subit un polissage de très haute précision pour obtenir une très faible rugosité de la surface, tandis que la face arrière reste finement moulée.

Haute dureté et résistance à l'usure Excellente isolation électrique Bonne conductivité thermique

Principales caractéristiques

Matériau de saphir monocristallin de haute pureté

Nos substrats en saphir sont fabriqués à partir d'alumine d'aluminium synthétique à cristal unique de haute pureté (Al2O3) avec 4N5/5N de très haute pureté,spécialement conçus pour les environnements de fabrication d'optoélectronique et de semi-conducteurs de haute qualitéLe matériau présente une excellente stabilité thermique, une inerté chimique, une résistance à la corrosion au plasma et une rigidité mécanique exceptionnelle.maintenir des performances physiques et optiques stables sous épitaxie à haute température, le traitement sous vide, et les conditions de processus chimiques difficiles.

Options d'orientation de plusieurs cristaux pour différents appareils

Les substrats de saphir sont disponibles avec des orientations cristallines courantes pour répondre aux différentes exigences des appareils semi-conducteurs et optoélectroniques.Les substrats en plan C sont optimisés pour l'épitaxie GaN et la production de masse de LED; les substrats en plan R prennent en charge les dispositifs RF SOS (Silicon-on-Sapphire) et les dispositifs microélectroniques à grande vitesse; les options en plan A et en plan M s'adressent aux dispositifs GaN non polaires/semipolaires et aux composants laser spéciaux.Des spécifications off-angle personnalisées sont disponibles pour améliorer la qualité de croissance épitaxielle et le rendement du dispositif.

Polissage ultra-précis et performances de planéité

Disponible en SSP (Single Side Polished) et en DSP (Double Side Polished) pour s'adapter à différents scénarios de processus.avec TTV strictement contrôléLa surface ultra-lisse et sans défaut répond parfaitement aux normes de croissance de l'épitaxie MOCVD, assurant un dépôt uniforme de la couche GaN et une grande cohérence des performances de la puce.

Excellentes propriétés électriques et optiques

Les substrats en saphir fournissent une isolation électrique supérieure et une faible perte diélectrique, isolant efficacement les interférences de circuit pour les appareils semi-conducteurs à haute fréquence et de puissance.Ils sont dotés d'une transmission spectrale ultra large UV-Vis-IR, un faible taux de dégazage et des performances optiques stables, ce qui les rend idéales pour les composants de fenêtres optiques, les emballages optoélectroniques de précision et les environnements de processus de semi-conducteurs sous vide.

Fabrication de substrats de précision sur mesure

Les spécifications du substrat peuvent être entièrement personnalisées selon les exigences techniques du client, notamment:

Diamètre de la gaufre: 2/3/4/6/8/12 pouces
Épaisseur standard et personnalisée
Orientation des cristaux et angle décalé précis
Les modes de polissage SSP / DSP
Tolérance à la rugosité et à la planéité de la surface
Chambres de bord et finitions de bord
Le modèle fonctionnel de surface (PSS/NPSS)
Grade de propreté et procédé de nettoyage précis

Traitement fonctionnel et services à valeur ajoutée personnalisés

En plus des substrats de saphir nus standard, nous fournissons un traitement fonctionnel personnalisé pour supporter les applications diversifiées des clients.

Fabrication de substrats à motifs PSS/NPSS
Métallisation complète/bordure/anneau/cadre/localisée (couche Au/Ti/Cr/Ni)
Coupe de gaufres ultra fines et traitement de soulagement des contraintes
Découpe, perçage et formage de haute précision
Finition de surface sur mesure (polissage/moulinage/sablage)
Inspection stricte de la qualité et certification complète de la COA

Remplacement sur mesure et solutions de substrat de qualité OEM

Nous soutenons le développement et la production de substrats de saphir sur mesure basés sur les dessins des clients, les échantillons de référence, les paramètres de processus de l'équipement,les spécifications existantes des composants et les exigences en matière d'ingénierie inverse;Tous les produits sont conformes aux normes RoHS et REACH, fournissant des solutions de substrat stables et à haut rendement pour la mise à niveau des processus de semi-conducteurs, l'appariement des équipements et les projets de remplacement localisés.

Applications typiques

Les substrats de saphir sont des matériaux de base de base largement utilisés dans les industries optoélectroniques et des semi-conducteurs, applicables aux dispositifs et processus de fabrication suivants:

Fabrication d'épitaxie et de puces à LED bleu/vert/ultraviolet
Production d'appareils d'affichage haut de gamme mini-LED / micro-LED
appareils de communication à haute fréquence et à puissances semi-conducteurs à base de GaN
Circuits intégrés à haute fréquence SOS (Silicon on Sapphire)
Éclairage automobile, composants optoélectroniques montés sur véhicule
fenêtres optiques AR/VR et composants optiques de précision
Capteurs MEMS et porteurs de puces microfluidiques
Fenêtres optiques de haute précision et composants de transmission infrarouge
Appareils à vide à semi-conducteurs et pièces isolantes à faible émission de gaz
Emballage de dispositifs optoélectroniques à haute puissance et substrats de gestion thermique

Les substrats de saphir ont été produits en série dans le commerce pour les scénarios optoélectroniques et semi-conducteurs courants, avec une consistance de lot stable,faible taux de défauts et excellente compatibilité des procédés.

Spécifications du produit

Nom de l'article	Spécification
Produit	Substrate de saphir / plaquette
Matériel	Saphir synthétique / Al2O3 monocristal
Méthode de croissance	Kyropoulos / Croissance de l'activité alimentée par des films définis par les bords (EFG)
Structure cristalline	Hexagonale (α-Al2O3)
Diamètre	2 " / 3 " / 4 " / 6 " / 8 " ou personnalisé
Épaisseur	Pour les appareils de traitement des déchets électroniques
Les orientations	Le système de mesure est basé sur la méthode suivante: c-plane (0001) / a-plane (11-20) / r-plane (1-102) / m-plane (10-10)
Finition de surface	SSP (polissé à une face) / DSP (polissé à deux côtés) / Lapé / Poussière
Qualité de la surface	Le système de détection de la pollution par le gaz est utilisé pour la détection de la pollution par le gaz.
TTV (variation totale de l'épaisseur)	≤ 5 μm (ou selon les exigences du client)
Vue d' orbite.	≤ 10 μm (ou selon les exigences du client)
Roughness (Ra)	Polissage: ≤ 0,2 nm / éclaboussure: ≤ 0,5 μm
Type de bordure	Avec ou sans plateau primaire (plein rond)
Longueur plate	Personnalisé (selon la norme SEMI ou le dessin du client)
Profil de bord	Chaffé ou arrondi selon les besoins
Dopant / Pureté	Haute pureté (≥ 99,99% Al2O3)
Le revêtement	Couche non revêtue / revêtement AR / revêtement ITO / revêtement métallique disponible
Application du projet	LED / semi-conducteurs / optique / RF et micro-ondes / montre / électronique grand public

Pourquoi choisir des substrats de saphir pour les applications de semi-conducteurs et d'optoélectronique?

Les substrats de saphir sont des matériaux de base largement utilisés dans l'épitaxie des semi-conducteurs, la fabrication de dispositifs optoélectroniques et les systèmes de traitement microélectronique.Servant de support pour le GaNIls fonctionnent dans des environnements de fabrication extrêmes caractérisés par des températures élevées, une forte érosion du plasma, une corrosion chimique,et champs électromagnétiques à haute fréquence.

Comparés au silicium, au quartz et aux matériaux de substrat céramique courants, les substrates de saphir monocristallin de haute pureté présentent des propriétés physiques et chimiques complètes supérieures.les rendant irremplaçables pour les procédés de haute technologie en matière de semi-conducteurs et d'optoélectroniqueLes principaux avantages sont les suivants:

Extrême stabilité à haute température: doté d'un point de fusion jusqu'à 2050°C, il maintient une structure cristalline stable et une précision dimensionnelle dans des procédés d'épitaxie et de recuit à haute température à long terme,éviter efficacement la déformation du substrat et la défaillance du dispositif.
Rigidité mécanique et dureté extrêmement élevées: avec une dureté de Mohs de 9, elle est la seconde après le diamant, elle offre une excellente résistance à l'usure et une stabilité structurelle, résistant aux dommages mécaniques et à la déformation lors de la découpe de précision,gravure et croissance de films minces.
Inerté chimique supérieure: résistant à la corrosion par divers gaz acides, alcalins et réactifs utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, sans réaction chimique ni détérioration de la surface,assurer des conditions de processus ultra-propres.
Excellente résistance au plasma et aux rayonnements: Il résiste à un bombardement de plasma à long terme et aux rayonnements ultraviolets dans les procédés de dépôt et de gravure à film mince, avec un faible taux de dommages à la surface et des performances stables.
Propriétés isolantes et diélectriques: doté d'une résistivité élevée et d'une faible perte diélectrique, il fournit une isolation électrique fiable pour les appareils optoélectroniques à haute fréquence et à haute puissance, réduisant ainsi efficacement les interférences du signal.
Haute transmission optique: Il permet une excellente transmission de la lumière dans les bandes ultraviolette, visible et infrarouge, s'adaptant parfaitement à la préparation des appareils émetteurs de lumière et photodétecteurs.
Durabilité du processus à long terme: Il maintient une planéité de surface et une qualité cristalline constantes dans des processus de production de semi-conducteurs répétitifs et rigoureux, réduisant considérablement la fréquence de remplacement du substrat et les coûts de production.

Pour les raisons susmentionnées, les substrats de saphir sont devenus le matériau principal de prédilection pour les plaquettes épitaxales LED, les dispositifs de semi-conducteurs de puissance,appareils de radiofréquence à micro-ondes et autres composants de semi-conducteurs de base.

Fabrication sur mesure de substrat de saphir

Nous sommes spécialisés dans la fabrication de substrat de saphir personnalisé et normalisé pour les équipements semi-conducteurs et optoélectroniques,axée sur des solutions sur mesure de haute précision pour la production industrielle et la R & D en laboratoireNous dépassons les limites des spécifications standard fixes et personnalisons les substrats entièrement en fonction des paramètres réels du processus des clients,exigences en matière de correspondance des équipements et normes de conception des dispositifs.

Les options de personnalisation complètes couvrent les paramètres du substrat et les structures de support du processus complet:

Paramètres du noyau du substrat de saphir

Diamètre de la gaufre (2/4/6/8 pouces et tailles spéciales sur mesure)
Épaisseur du substrat
Orientation cristalline (plan C, plan A, plan R, plan M et plans cristallins spéciaux personnalisés)
Forme des bords et spécifications de l'encadrement
Conception de positionnement plat/encoche
Roughness et planéité de la surface
Exigences à double face/polie à une face
Traitement de surface ultra-propre et traitement de soulagement des contraintes

Compatibilité des composants structurels

Personnalisation de la taille du support de substrat
Traitement des trous de positionnement et des rainures
Base métallique correspondante et structure de la pochette
Caractéristiques de montage et de fixation des interfaces
Assemblage intégré de substrats et de pièces auxiliaires

Nous pouvons fournir des composants intégrés finis assemblés avec des substrats en saphir et des pièces métalliques/céramiques correspondantes pour répondre aux besoins d'installation et d'utilisation directs des clients.

Remplacement et service d'ingénierie inverse

Pour les substrats en saphir discontinués, les pièces originales difficiles à trouver et les substrats non standard sur mesure pour les équipements semi-conducteurs spéciaux,Nous fournissons des services professionnels d'ingénierie inverse et de fabrication de remplacementLes clients peuvent fournir les informations suivantes pour évaluation et devis:

Numéro de pièce d'équipement d'origine
Dessin technique détaillé et spécifications des paramètres
Des photos claires du produit et des échantillons physiques (nouveaux/utilisés)
Données de paramètres de dimension et de cristal clés
Modèle d'équipement d'assistance et informations sur les lots
Scénarios d'application spécifiques et paramètres de l'environnement de processus

Notre équipe d'ingénieurs professionnels effectuera une évaluation complète de la structure du substrat, des performances cristallines, de la difficulté de traitement et de la faisabilité de fabrication avant la soumission officielle.Tous les substrats de remplacement personnalisés seront optimisés pour la compatibilité des processusLes performances de correspondance finale doivent être confirmées selon les normes de configuration réelle de l'équipement et de processus de production des clients afin d'assurer une différence nulle dans l'effet d'utilisation.

Contrôle de la qualité

Nous mettons en œuvre une inspection de qualité de précision complète pour tous les substrats de saphir,et peut fournir des éléments d'inspection ciblés et des rapports d'essais complets selon les exigences du projet du client et les normes de l'industrieLes principaux contenus de l'inspection sont les suivants:

Inspection de précision en pleine dimension (étalonnage du diamètre, de l'épaisseur et des tolérances)
Détection de la précision d'orientation des cristaux
Épreuves de planéité de surface, de déformation et de rugosité
Inspection des défauts visuels (égratignures, crevasses, fissures, inclusions)
Nettoyage et détection des contraintes de surface
Inspection de la précision d'assemblage et des tolérances correspondantes
Inspection professionnelle des emballages anti-collision et anti-poussière

Des rapports d'inspection formels contenant des données complètes peuvent être fournis afin d'appuyer la vérification des matériaux entrants du client et la traçabilité de la qualité de la production.

Quelles informations devriez- vous envoyer pour obtenir un devis?

Afin d'assurer un devis précis et de raccourcir le cycle de livraison, veuillez fournir les informations détaillées suivantes lors de la consultation:

Des dessins techniques complets du produit et des fiches de paramètres
Exigences relatives au diamètre, à l'épaisseur et aux tolérances du substrat
Normes relatives à l'orientation cristalline et au traitement de surface
Exigences en matière de finition de surface, de qualité de polissage et de propreté
Paramètres des composants auxiliaires correspondants (le cas échéant)
Marque et modèle d'équipement et conditions de processus de support
Numéro de pièce OEM d'origine (le cas échéant)
Quantité requise et demande de lots
Procédure de demande spécifique et exigences environnementales extrêmes

Si aucun dessin technique complet n'est disponible, veuillez fournir des photos claires en haute définition et des échantillons physiques du substrat afin que notre équipe puisse effectuer des essais de paramètres et une évaluation du schéma.

Questions fréquentes

À quoi servent principalement les substrats de saphir?

Les substrats de saphir sont des matériaux porteurs de base pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques, principalement utilisés dans les plaquettes épitaxielles LED à base de GaN, les dispositifs électroniques de puissance, les puces RF à micro-ondes,appareils photoélectriques ultraviolets, équipements de traitement du plasma à semi-conducteurs et autres domaines, adaptés à l'épitaxie à haute température, au dépôt de films minces et aux procédés de gravure de précision.

Pouvez-vous fournir des pièces d'assemblage de substrat intégré sur mesure?

En plus des plaquettes en saphir, nous pouvons personnaliser des accessoires, des bases métalliques,composants de positionnement et ensembles intégrés finis conformément aux dessins et aux exigences relatives aux échantillons, réalisant un guichet unique pour l'approvisionnement.

Pouvez-vous produire des substrats de remplacement pour les équipements anciens et spéciaux?

Nous offrons un service complet de fabrication personnalisée, y compris la production basée sur des dessins et l'ingénierie inverse des échantillons.échantillons physiques et informations sur l'équipement, et notre équipe va compléter le matching de performance et la fabrication alternative.

Tous les paramètres de base des substrats en saphir peuvent-ils être personnalisés?

Tous les paramètres clés, y compris la taille du substrat, l'épaisseur, l'orientation du cristal, le traitement des bords, la rugosité de la surface,la planéité et la qualité de polissage peuvent être entièrement personnalisées selon les exigences du processus du client pour répondre aux besoins personnalisés de R&D et de production.

Soutient-on les commandes de petits lots et de prototypes?

Nous soutenons pleinement le développement de prototypes, les tests en laboratoire de petits lots, le remplacement de l'équipement de maintenance et les commandes de production en série.Nous évaluerons le schéma de production et le devis selon les paramètres personnalisés et la difficulté de traitement.

Étiquettes:

Substrate de saphir TGV avec micro-trous de précision et une disposition personnalisée pour une résistance mécanique élevée

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Haute dureté et résistance à l'usure Excellente isolation électrique Bonne conductivité thermique

Principales caractéristiques

Matériau de saphir monocristallin de haute pureté

Options d'orientation de plusieurs cristaux pour différents appareils

Polissage ultra-précis et performances de planéité

Excellentes propriétés électriques et optiques

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Remplacement sur mesure et solutions de substrat de qualité OEM

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