logo
Bon prix  en ligne

Détails des produits

Created with Pixso. Maison Created with Pixso. PRODUITS Created with Pixso.
Gaufrette de silicium d'IC
Created with Pixso. Plaquette de silicium carrée avec support laminé pour la recherche avancée en circuits intégrés, semi-conducteurs et quantique

Plaquette de silicium carrée avec support laminé pour la recherche avancée en circuits intégrés, semi-conducteurs et quantique

Nom De Marque: ZMSH
MOQ: 10
Délai De Livraison: 2-4 semaines
Conditions De Paiement: T/T
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Shanghai, Chine
Matériel:
Silicium monocristallin de première qualité
Type de gaufre:
Carré avec support filmé laminé
Dimensions:
Norme 2″ (50,8 mm) ; tailles personnalisées disponibles
Épaisseur:
Personnalisable jusqu'à 725 μm
Méthode de croissance:
Czochralski (CZ)
TTV:
<0,3 μm
Finition superficielle:
Poli simple face (SSP) ou poli double face (DSP)
Film porteur:
Film laminé protecteur, amovible avant traitement
Mettre en évidence:

Wafer en silicium carré pour la recherche sur les circuits intégrés

,

Porteur de plaquettes de silicium filmées

,

Plaquettes de silicium semi-conducteurs avec film

Description de produit

Wafer de silicium carré avec support stratifié par film pour la recherche avancée sur les circuits intégrés, les semi-conducteurs et les quantiques


Vue d'ensemble du produit


ZMSH présente notre plaquette de silicium carrée avec support laminé, conçue pour une efficacité et une précision maximales dans la recherche et la fabrication de semi-conducteurs.Nos plaquettes carrées éliminent les déchets matériels pendant le découpage, réduire la complexité de l'emballage et améliorer l'alignement pour le collage de fil ou l'assemblage en flip-chip.et prend en charge le traitement à haut débit.


Ces plaquettes présentent un TTV < 0,3 μm et des niveaux d'impuretés ultra-faibles, offrant des performances électriques constantes.et la recherche en informatique quantique, nos plaquettes accélèrent les cycles de R&D tout en optimisant l'utilisation des matériaux.

Plaquette de silicium carrée avec support laminé pour la recherche avancée en circuits intégrés, semi-conducteurs et quantique 0Plaquette de silicium carrée avec support laminé pour la recherche avancée en circuits intégrés, semi-conducteurs et quantique 1


Principales caractéristiques


  • Utilisation optimale des matériaux
    La géométrie carrée minimise le gaspillage de silicium, permettant jusqu'à30% de copeaux plus utilisables par wafer, en réduisant les coûts de recherche et en allongeant les budgets des projets.


  • Déchiquetage et emballage simplifiés
    La conception carrée réduit les étapes de découpage dejusqu'à 50%, simplifiant la conception de prototypes et raccourcissant les délais de production.placement précis des puceslors de l'assemblage des fils ou des copeaux.


  • Protection des supports par film
    Le film pré-appliqué offre une protection supérieure contre les rayures, la contamination et les dommages causés par la manipulation, garantissant que les plaquettes restent intactes tout au long du transport et de la transformation.


  • Haute précision et assurance qualité

    • Variation totale de l'épaisseur (TTV): < 0,3 μm

    • Niveaux d'impureté: < 10 ppb

    • Plateur: < 0,5 μm

    • Silicium monocristallin, vierge et épipréparé
      Un contrôle de qualité rigoureux et une métrologie avancée garantissent des résultats reproductibles pour les applications de haute technologie.


  • Applications polyvalentes

    • Fabrication de dispositifs à semi-conducteurs: transistors, capteurs, photodétecteurs

    • Computation quantique: Substrats Qubit avec une grande stabilité dimensionnelle

    • Développement avancé de circuits intégrés: intégration dense et miniaturisation

    • Recherche sur les MEMS et la microfluidique


Spécifications techniques


Spécification Valeur
Matériel Silicium monocristallin de première qualité
Type de plaquette Carré avec support stratifié
Les dimensions 2′′ (50,8mm) standard; des tailles personnalisées sont disponibles
Épaisseur Personnalisable jusqu'à 725 μm
Méthode de croissance Czochralski (CZ)
TTV < 0,3 μm
Plateur < 0,5 μm
Les impuretés < 10 ppb
Finition de surface Polie à une face (SSP) ou double face (DSP)
Film porteur Films de protection laminés, amovibles avant transformation


Les avantages


  • Prototypage plus rapide:Les étapes de découpe et d'emballage réduites accélèrent les cycles de développement.

  • Produit plus élevé:Une conception carrée optimisée augmente le nombre de puces utilisables.

  • Manipulation sécurisée:Le support laminé en film protège l'intégrité de la gaufre pendant le transport et le traitement.

  • Alignement précis:Idéal pour le câblage, l'assemblage de copeaux et les systèmes de manutention automatisés.

  • Qualité fiable:Dépasse les normes de l'industrie avec des propriétés électriques et mécaniques cohérentes.


Applications


  • Fabrication d'appareils à semi-conducteurs¢ Transistors, capteurs et photodétecteurs de haute performance.

  • Recherche en informatique quantique¢ Substrats stables pour les qubits et les circuits avancés.

  • Développement avancé de circuits intégrésIl prend en charge la miniaturisation et les mises en page denses des appareils.

  • MEMS et microfluidiqueIl facilite la fabrication précise de dispositifs à petite échelle.


Questions fréquemment posées


1Quelles tailles de plaquettes de silicium carrées sont disponibles?


Les tailles standard comprennent 2 " (50,8 mm) à 12 " (300 mm).

2Les plaquettes carrées peuvent-elles remplacer les plaquettes circulaires dans les procédés existants?


Oui, les plaquettes carrées sont compatibles avec les équipements de fabrication de semi-conducteurs standard, tout en offrant une utilisation plus élevée des matériaux.


3.En quoi le support laminé à film profite-t-il à la manipulation des plaquettes?


Le support protège les plaquettes contre les rayures et la contamination, réduisant les dommages causés par la manutention et maintenant un rendement élevé pendant le transport et la transformation.


Produits connexes


Plaquette de silicium carrée avec support laminé pour la recherche avancée en circuits intégrés, semi-conducteurs et quantique 2

Wafer de silicium Silicium sur isolant Silicium semi-conducteur Industrie microélectronique Multidimension