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6-12 pouces 1064nm SiC Système de séparation au laser de substrat Wafers de machine personnalisés

Détails de produit

Lieu d'origine: Chine

Nom de marque: ZMSH

Certification: rohs

Numéro de modèle: Machine à système de séparation laser

Conditions de paiement et d'expédition

Quantité de commande min: 5

Prix: by case

Délai de livraison: 3-6 mois

Conditions de paiement: T/T

Capacité d'approvisionnement: 1000 pièces par mois

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Mettre en évidence:
Type de laser:
Excimère (193nm/248nm), Femtoseconde (343nm/1030nm)
Zone de traitement:
Le nombre maximal d'écrans est de 150 mm × 150 mm.
Vitesse de traitement​​:
50–300 mm/s
Épaisseur de levage:
10 nm ≈ 20 μm
Intégration système​​:
Unité de nettoyage EFU, système de traitement des gaz d'échappement
Application du projet:
Fabrication de semi-conducteurs, électronique flexible
Type de laser:
Excimère (193nm/248nm), Femtoseconde (343nm/1030nm)
Zone de traitement:
Le nombre maximal d'écrans est de 150 mm × 150 mm.
Vitesse de traitement​​:
50–300 mm/s
Épaisseur de levage:
10 nm ≈ 20 μm
Intégration système​​:
Unité de nettoyage EFU, système de traitement des gaz d'échappement
Application du projet:
Fabrication de semi-conducteurs, électronique flexible
6-12 pouces 1064nm SiC Système de séparation au laser de substrat Wafers de machine personnalisés

 

Machine de système de séparation laser de sAperçu du système

 

6-12 pouces 1064nm SiC Système de séparation au laser de substrat Wafers de machine personnalisés 0

Machine de système de séparation laser de substrat SiC 1064nm de 6 à 12 pouces, plaquettes personnalisées

 
 
 

Le système de décollage laser (LLO) est une technologie de traitement de précision avancée qui utilise des lasers pulsés à haute énergie pour réaliser une séparation sélective des matériaux aux interfaces. Cette technologie est largement appliquée dans la fabrication de semi-conducteurs, l'électronique flexible, les dispositifs optoélectroniques et les secteurs de l'énergie. Ses principaux avantages incluent le traitement sans contact, le contrôle haute résolution et la compatibilité multi-matériaux, ce qui le rend indispensable pour des applications telles que le transfert de masse de MicroLED, la fabrication d'écrans flexibles et l'encapsulation au niveau des plaquettes de semi-conducteurs.

 

 

​​Points forts des services de l'entreprise​​:

 

​​Solutions personnalisées​​: Longueur d'onde laser sur mesure (193nm–1064nm), puissance (1W–100W) et intégration de l'automatisation pour soutenir la R&D et la production de masse.

​​Développement de processus​​: Optimisation des paramètres laser, conception de la mise en forme du faisceau et services de validation (par exemple, LLO laser UV pour les substrats de saphir).

​​Maintenance intelligente​​: Surveillance et diagnostic des pannes à distance intégrés, assurant une assistance opérationnelle 24h/24 et 7j/7 avec un temps de réponse inférieur à 2 heures.

 

 


 

Machine de système de séparation laserde paramètres techniques​

 

 

Paramètre​​ ​​Valeurs typiques​​ ​​Notes​​
​​Type de laser​​ Excimer (193nm/248nm), Femtoseconde (343nm/1030nm) Largeur d'impulsion 5–20ns, puissance de crête >10kW
​​Zone de traitement​​ Max 150mm × 150mm Traitement parallèle multi-stations
​​Vitesse de traitement​​ 50–300mm/s Réglable selon le matériau et la puissance du laser
​​Épaisseur de décollage​​ 10nm–20µm Capacité de délaminage couche par couche
​​Intégration du système​​ Unité de nettoyage EFU, système de traitement des gaz d'échappement Conformité à la propreté ISO 14644

 

 


 

Machine de système de séparation laser du principe de fonctionnement

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Le LLO fonctionne par ​​ablation sélective​​ aux interfaces des matériaux :

 

​​Irradiation laser​​: Des impulsions à haute énergie (par exemple, lasers excimères ou femtosecondes) se concentrent sur l'interface cible (par exemple, saphir-GaN), induisant des réactions photothermiques/photochimiques.

​​Décomposition de l'interface​​: L'énergie laser déclenche la gazéification (par exemple, GaN → Ga + N₂), générant du plasma et une contrainte thermique pour un délaminage contrôlé.

​​Collecte de matériaux​​: Les microstructures délaminées sont capturées par aspiration sous vide ou dynamique des fluides, assurant un transfert sans contamination.

 

 

​​Technologies clés​​:

 

  • ​​Lasers ultrarapides​​: Les impulsions femtosecondes (<100fs) minimisent les dommages thermiques (par exemple, séparation des MicroLED).
  • ​​Mise en forme du faisceau​​: Les profils de faisceau linéaires/rectangulaires améliorent l'efficacité (par exemple, traitement par lots de circuits imprimés flexibles).

 

 


 

Fonctionnalités du système​​

 

​​Fonctionnalité​​ ​​Spécifications techniques​​ ​​Applications​​
​​Traitement sans contact​​ L'énergie laser est transmise par l'optique, évitant les contraintes mécaniques sur les matériaux fragiles OLED flexible, MEMS
​​Haute précision​​ Précision de positionnement ±0,02 mm, contrôle de la densité d'énergie ±1 % Transfert de MicroLED, structuration sub-µm
​​Compatibilité multi-matériaux​​ Prend en charge les lasers UV (CO₂), visibles (verts) et IR ; compatible avec les métaux, les céramiques, les polymères Semi-conducteurs, dispositifs médicaux, énergies renouvelables
​​Contrôle intelligent​​ Vision artificielle intégrée, optimisation des paramètres basée sur l'IA, chargement/déchargement automatisé Amélioration de l'efficacité de la production de +30 %

 

 


Machine de système de séparation laser des domaines d'application

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​​1. Fabrication de semi-conducteurs​​

 

  • ​​Encapsulation au niveau des plaquettes​​: Décollement laser pour la séparation des puces sur plaquettes, améliorant le rendement.

  • ​​MicroLED/Micro-affichage​​: Transfert de masse de LED à l'échelle du µm vers des substrats en verre/PET.

 

 

2. ​​Électronique flexible​​

 

  • ​​Écrans pliables​​: Délaminage des circuits flexibles des substrats en verre (par exemple, Samsung Galaxy Fold).

  • ​​Fabrication de capteurs​​: Dénudage de précision des céramiques piézoélectriques pour les capteurs tactiles.

 

 

​​3. Dispositifs médicaux​​

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  • ​​Traitement des cathéters​​: Dénudage au laser des couches d'isolation pour les fils biocompatibles.

  • ​​Fabrication d'implants​​: Enlèvement du revêtement en alliage de titane pour les implants orthopédiques.

 

 

4. ​​Énergies renouvelables​​

 

  • ​​Cellules solaires pérovskites​​: Dénudage d'électrodes conductrices transparentes pour l'optimisation de l'efficacité.

  • ​​Modules photovoltaïques​​: Gravure au laser pour réduire le gaspillage de plaquettes de silicium de 20 %.
 

 


 

Machine de système de séparation laser de FAQ

 

 

1. Q : Qu'est-ce qu'un système de décollage laser ?​​

    R : Un système de décollage laser est un outil de traitement de précision qui utilise des lasers pulsés à haute énergie pour séparer sélectivement les matériaux aux interfaces, ce qui permet des applications telles que le transfert de masse de MicroLED et la fabrication d'électronique flexible.

 

 

​​2. Q : Quelles industries utilisent les systèmes LLO ?​​

    R : Les systèmes LLO sont essentiels dans la ​​fabrication de semi-conducteurs​​ (encapsulation au niveau des plaquettes), ​​l'électronique flexible​​ (écrans pliables), les ​​dispositifs médicaux​​ (fabrication de capteurs) et les ​​énergies renouvelables​​ (cellules solaires), offrant un traitement sans contact et à haute résolution.

 

 

 

Tags : #6-12 pouces, #1064nm, # Machine de système de séparation laser de substrat SiC, #Plaquettes personnalisées