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Gaufrette de phosphure d'indium

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Gaufrette de phosphure d'indium

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La Chine Dispositif électronique à haute puissance de type épingle à fond plat usine

Dispositif électronique à haute puissance de type épingle à fond plat

Résumé de cSubstrate de dissipateur de chaleur supérieur Dispositif électronique à haute puissance de type épingle à fond plat Le substrat de dissipateur de chaleur en cuivre est un élément dissipateur de ... Lire la suite
2025-04-14 17:37:13
La Chine En tant qu'arsenure d'indium2 pouces 3 pouces 4 pouces Substrate monocristallin N/P Type de semiconducteur Épaisseur de gaufre 300-800um usine

En tant qu'arsenure d'indium2 pouces 3 pouces 4 pouces Substrate monocristallin N/P Type de semiconducteur Épaisseur de gaufre 300-800um

Description du produit En tant qu'arsenure d'indium2 pouces 3 pouces 4 pouces Substrate monocristallin N/P Type de semiconducteur Épaisseur de gaufre 300-800um L'indium InAs ou indium arsenide monolithique est ... Lire la suite
2024-12-05 11:57:01
La Chine Substrate de germanium GE Fenêtres plates Lentilles optiques Applications d'imagerie thermique et spectroscopie infrarouge Haute dureté usine

Substrate de germanium GE Fenêtres plates Lentilles optiques Applications d'imagerie thermique et spectroscopie infrarouge Haute dureté

Description du produit Substrate de germanium GE Fenêtres plates Lentilles optiques Applications d'imagerie thermique et spectroscopie infrarouge Haute dureté La fenêtre de germanium (Ge) est un matériau ... Lire la suite
2024-11-18 10:47:17
La Chine Substrats de semi-conducteurs à base de plaquettes de gégermanium <111> Concentrer les formes de taille personnalisées du CPV photovoltaïque usine

Substrats de semi-conducteurs à base de plaquettes de gégermanium <111> Concentrer les formes de taille personnalisées du CPV photovoltaïque

Description du produit Substrats de semi-conducteurs à base de plaques de germanium < 111> concentrant des CPV photovoltaïques Le germanium de haute pureté est dopé avec des éléments trivalents (par exemple, ... Lire la suite
2024-11-18 10:47:17
La Chine Oxyde de magnésium Pureté 95% MgO Film Substrate 5x5 10x10 20x20 Épaisseur 0,5 mm 1,0 mm Orientation &lt;001&gt; &lt;110&gt; &lt;111&gt; usine

Oxyde de magnésium Pureté 95% MgO Film Substrate 5x5 10x10 20x20 Épaisseur 0,5 mm 1,0 mm Orientation <001> <110> <111>

Purification de l'oxyde de magnésium 95% film de substrat 5x5 10x10 20x20 épaisseur 0,5 mm orientation 1,0 mm Description du produit: L'oxyde de magnésium (MgO) monocristallin de substrat à film mince est un ... Lire la suite
2024-11-18 10:47:16
La Chine InP Wafer épitaxial laser Wafer phosphure d&#039;indium DFB/EML Wafer expitaxial pour la détection intelligente usine

InP Wafer épitaxial laser Wafer phosphure d'indium DFB/EML Wafer expitaxial pour la détection intelligente

Wafer épitaxial de 2 pouces semi-isolant à base de phosphure d'indium InP pour diode laser LD, wafer épitaxial semi-conducteur, wafer InP de 3 pouces, wafer monocristallin 2 pouces 3 pouces 4 pouces sous-strats ... Lire la suite
2024-09-10 15:33:01
La Chine InAs Wafer Dopé Zn 2 pouces Indium Arsenide Wafer Dia 50mm Épaisseur 500um &lt;100&gt; Personnalisé usine

InAs Wafer Dopé Zn 2 pouces Indium Arsenide Wafer Dia 50mm Épaisseur 500um <100> Personnalisé

Wafer épitaxial InAs de 2 pouces pour une diode laser LD, wafer épitaxial semi-conducteur, wafer InAs-Zn de 3 pouces,Plaquettes monocristallines InAs de 2 pouces 3 pouces 4 pouces InAs-Zn sous-strats pour une ... Lire la suite
2024-09-10 15:33:00
La Chine Wafer DFB N-InP substrat épiwafer couche active InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pouces pour le capteur de gaz usine

Wafer DFB N-InP substrat épiwafer couche active InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pouces pour le capteur de gaz

Wafer DFB N-InP substrat épiwafer couche active InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pouces pour le capteur de gaz Rapport de l'épi-plaque de substrat N-InP de la plaque DFB Une plaque à rétroaction distribuée (DFB) sur un ... Lire la suite
2024-09-10 15:33:00
La Chine DFB Epiwafer InP Substrate Méthode MOCVD 2 4 6 pouces Longueur d&#039;onde de fonctionnement 1,3 μm, 1,55 μm usine

DFB Epiwafer InP Substrate Méthode MOCVD 2 4 6 pouces Longueur d'onde de fonctionnement 1,3 μm, 1,55 μm

DFB Epiwafer InP sous-strate MOCVD méthode 2 4 6 pouces Longueur d'onde de fonctionnement: 1,3 μm, 1,55 μm Rapport sur le substrat InP de l'épivaire DFB Les épiwafers sur des substrats à phosphure d'indium (InP... Lire la suite
2024-09-10 15:33:00
La Chine FP Epiwafer InP couche de contact du substrat InGaAsP Dia 2 3 4 pouces Pour la bande de longueur d&#039;onde OCT 1,3um usine

FP Epiwafer InP couche de contact du substrat InGaAsP Dia 2 3 4 pouces Pour la bande de longueur d'onde OCT 1,3um

FP épi-wafer InP couche de contact de substrat InGaAsP Dia 2 3 4 pouces pour la bande de longueur d'onde OCT 1,3um Résumé du substrat InP de l'épi-plaquette FP Les épi-plaquettes Fabry-Perot (FP) sur des ... Lire la suite
2024-09-10 15:33:00
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